[发明专利]声音传感器的制备方法有效
申请号: | 201410563735.5 | 申请日: | 2014-10-21 |
公开(公告)号: | CN105530577B | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 刘炼;李卫刚;郑超;王伟;郭亮良 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H04R19/04 | 分类号: | H04R19/04;H04R31/00;B81C1/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 声音 传感器 制备 方法 | ||
本发明揭示了一种声音传感器的制备方法,包含:提供一基底;在所述基底上依次形成第一牺牲层、第二牺牲层、振动电极、第三牺牲层、固定电极膜以及保护层;选择性刻蚀所述保护层以及固定电极膜,形成一固定电极以及声音孔;选择性刻蚀所述基底,形成一基底开口;采用第一湿法刻蚀工艺去除所述第一牺牲层;采用灰化工艺去除所述第二牺牲层以及第三牺牲层,形成声音传感器。本发明的声音传感器的制备方法,可以避免或减少刻蚀液会残留在空气腔中,从而提高器件的性能。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,特别是涉及一种声音传感器的制备方法。
背景技术
麦克风在多种设备上都有应用,诸如移动电话和集成电路(IC)录音机。作为麦克风的主要器件,声音传感器对声音的传输起着至关重要的作用。目前,声音传感器中的空气腔通常采用牺牲层释放的方法进行制备,如图1-图9所示,具体的步骤包括:
首先,如图1所示,提供一基底100;
然后,如图2所示,在所述基底100上形成一第一牺牲层110,所述第一牺牲层110的材料为氧化物;
接着,如图3所示,在所述第一牺牲层110上形成一振动电极120,所述振动电极120中可以形成有裂缝121,所述裂缝121可以改善声音传感器的信噪比。此外,所述第一牺牲层110上还可以设置有支撑所述振动电极120的支撑物,此为本领域的技术人员可以理解的,在图3中未具体示出;
随后,如图4所示,在所述振动电极120上形成一第二牺牲层130,所述第二牺牲层130的材料为氧化物;
接着,如图5所示,在所述第二牺牲层130上形成一固定电极膜140;
之后,如图6所示,对所述第一牺牲层110和第二牺牲层130进行刻蚀,形成一环形的开槽131,所述开槽131将所述第一牺牲层110分为第一部分110a以及第二部分110b,所述开槽131将所述第二牺牲层130分为第一部分130a以及第二部分130b,第一牺牲层110的第一部分110a和第二牺牲层130的第一部分130a形成空气腔的牺牲层,第一牺牲层110的第二部分110b和第二牺牲层130的第二部分130b形成基座部分150;
然后,如图7所示,形成一保护层160,所述保护层160密封所述固定电极膜140、第二牺牲层130以及第一牺牲层110,所述保护层160同时密封所述基座部分150,空气腔的牺牲层与基座部分150通过所述保护层160相隔离;
随后,如图8所示,选择性刻蚀所述保护层160以及固定电极膜140,形成一固定电极141以及声音孔161,所述声音孔161露出部分所述第二牺牲层130;并选择性刻蚀所述基底100,形成一基底开口101,所述基底开口101露出至少所述第一牺牲层110的第一部分110a;
由于所述第一牺牲层110、第二牺牲层130的材料为氧化物,所以,采用湿法刻蚀工艺去除所述第一牺牲层110的第一部分110a以及第二牺牲层130的第一部分130a,如图9所示,在湿法刻蚀工艺中,刻蚀液从所述声音孔161和基底开口101流入,并接触所述第一牺牲层110a以及第二牺牲层130a,从而去除所述第一牺牲层110a以及第二牺牲层130a,形成空气腔111,从而形成声音传感器1。
然而,由于在现有技术中,所述第一牺牲层110的第一部分110a以及第二牺牲层130的第一部分130a是通过湿法刻蚀工艺去除的,刻蚀液进入所述声音孔161和基底开口101后才能接触到所述第一牺牲层110a以及第二牺牲层130a,当所述第一牺牲层110a以及第二牺牲层130a被去除后,部分刻蚀液会残留在空气腔111中,从而影响声音传感器1的性能。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种声音传感器的制备方法,可以避免或减少刻蚀液会残留在空气腔中,从而提高器件的性能。
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