[发明专利]一种复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜及制备方法

权利要求书

1.一种复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜，包括有玻璃基片(1)，在所述的玻璃基片(1)的复合面上由内到外依次相邻地复合有六个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为SnCl₂层(21)，第二层为TiO₂层(22)，第三层为Ag层(23)，第四层为Sn层(24)，第五层为初级漆层(25)，最外层为面漆层(26)。

2.根据权利要求1所述的复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜，其特征在于所述第一膜层的SnCl₂层(21)的厚度为10～15nm。

3.根据权利要求1所述的复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜，其特征在于所述第二膜层的TiO₂层(22)的厚度为10～15nm。

4.根据权利要求1所述的复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜，其特征在于所述第三膜层的Ag层(23)的厚度为10～15nm。

5.根据权利要求1所述的复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜，其特征在于所述第四层Sn层(24)的厚度为8～14nm。

6.根据权利要求1所述的复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜，其特征在于所述第五层初级漆层(25)的厚度为20～35μm。

7.根据权利要求1所述的复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜，其特征在于所述最外层面漆层(26)的厚度为20～35μm。

8.一种制造权利要求1-7任意一项所述的复合有基于锡膜镜面膜层的反射镜的方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)涂SnCl₂层，用SnCl₂溶液均匀地喷在清洗过的玻璃基片上，保留1～2分钟，亚锡离子进入玻璃的硅氧网络中与氧结合，使玻璃表面产生亚锡离子敏化层，用2～3道0.3Mpa以上压力去离子水冲洗，将残留敏化液和反应残液除去；

(2)磁控溅射TiO₂层，用交流中频电源磁控溅射钛靶，用氧气作为反应气体，氩氧比为1:2，溅射功率40KW，溅射速度4m/min；

(3)磁控溅射Ag层，用直流电流溅射银靶，用氩气作为反应气体，气体流量500SCCM，溅射功率5～6KW，溅射速度4m/min；

(4)磁控溅射Sn层，用直流电流磁控溅射锡靶，用氩气作为反应气体，气体流量500SCCM，溅射功率2～3KW，溅射速度4m/min；

(5)淋底漆，通过淋漆机将底漆均匀地涂布于锡膜表面磁控；

(6)底漆烘干，设定底漆的烘烤温度为190～210摄氏度，使底漆在淋面漆前达到表干的程度，为淋面漆做好准备；

(7)淋面漆，通过淋漆机将面漆均匀地涂布于底漆表面；

(8)面漆烘干，设定面漆的烘烤温度为190～210摄氏度，使面漆达到表干的程度；

(9)漆面固化冷却，将经过高温烘烤的玻璃银镜进行冷却，使漆膜进一步冷凝固化。