[发明专利]一种用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源有效
| 申请号： | 201410569130.7 | 申请日： | 2014-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN104362065B | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 孙雪平;佘鹏程;彭立波;陈特超;张赛;毛朝斌;胡凡 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司43113 | 代理人： | 马强,李发军 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 离子束 刻蚀 口径 平行 离子源 | ||
1. 一种用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征是，包括安装法兰（1），装在安装法兰（1）上表面的真空电极（22），通过支杆（2）装在安装法兰（1）上的磁场部件（3），装在磁场部件（3）上部的放电室（4），以及设置在放电室（4）内的阳极（9）和放电灯丝（8）；所述阳极（9）固定在磁场部件（3）顶部并与之绝缘隔离，该磁场部件（3）为放电室（4）提供径向平行磁场；所述磁场部件（3）和放电室（4）外设有包绕的内罩（5），该外罩（5）顶部装有用于安装中和灯丝（6）的中和灯丝安装座。
2. 根据权利要求1所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述放电室（4）为双层圆筒状结构，且放电室（4）的内径小于磁场部件（3）的磁场区域。
3. 根据权利要求1所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述放电室（4）顶部装有栅网部件（7）。
4. 根据权利要求1所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述栅网部件（7）为两级栅或三级栅，相邻两级栅之间设有绝缘件（10），每级栅网包括栅网和对应的栅网法兰。
5. 根据权利要求1~4之一所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述阳极（9）为多个金属环；相邻两个金属环中，一个金属环位于另一个金属环内，且相邻两个金属环之间具有间隙；在多个金属环（2）中，位于外侧的金属环的高度低于位于内侧的金属环。
6. 根据权利要求5所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述阳极（9）的位置可沿着放电室（4）轴向调节。
7. 根据权利要求2所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述放电灯丝（8）呈圆形，并通过绝缘件固定在放电室（4）内侧。
8. 根据权利要求7所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述放电灯丝（8）的位置可沿着放电室（4）轴向调节。
9. 根据权利要求1所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述磁场部件（3）和放电室（4）上均设有冷却结构，该冷却结构与进液接头（13）连通。
10. 根据权利要求1所述的用于离子束刻蚀机的大口径平行束离子源，其特征在于，所述磁场部件（3）、放电室（4）、阳极（9）、放电灯丝（8）和内罩（5）同轴心装配为一整体。
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