[发明专利]光隔离器用光学元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410571766.5 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN104570407B 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 斋藤英男 申请(专利权)人: SMM精密有限公司
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本秋田县*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 隔离 器用 光学 元件 及其 制造 方法
【说明书】:

本发明的光隔离器用光学元件包含在2片偏振元件间贴合有1片法拉第转子的层叠结构体,且以位于层叠结构体的层叠方向一端侧的偏振元件构成入射面而位于另一端侧的偏振元件构成出射面的方式组装而成,所述光隔离器用光学元件中,层叠结构体具有由剖面四边形状的法拉第转子与偏振元件构成的长方体形状,并且以层叠结构体的入射面与出射面相对于垂直于光轴的面而平行的方式组装,且在连结法拉第转子与偏振元件的各角部而形成的层叠结构体的棱线部,遍及层叠方向而连续地设置有切痕,该切痕在组装时表示这是构成入射面的偏振元件。

技术领域

本发明涉及一种光隔离器(photo isolator)用光学元件,该光隔离器用光学元件包含将1片或2片法拉第转子(Faraday rotator)与2片以上的偏振元件以偏振元件包夹法拉第转子的方式贴合而成的层叠结构体,且以位于层叠结构体的层叠方向一端侧的偏振元件构成入射面而位于另一端侧的偏振元件构成出射面的方式组装而成,本发明尤其涉及一种设置有切痕(记号)的光隔离器用光学元件的改良及其制造方法,所述切痕(记号)在组装时表示这是构成入射面的偏振元件。

背景技术

作为设置有记号的光隔离器用光学元件,已知有专利文献1中公开的,所述记号在作为光隔离器的零件而组装时表示这是构成入射面的偏振元件。即,该光隔离器用光学元件(磁光元件)具备偏振方向彼此相差45度的2片偏振元件、及被一体地包夹在这2片偏振元件之间的法拉第转子,在所述2片偏振元件中的至少任一个偏振元件上,形成有表示偏振方向的记号(专利文献1的图3示出了在具有四边形状的偏振元件的外周缘部设置有阶梯状的切口来作为记号的磁光元件)。另外,所述记号是在将面积比要制造的光隔离器用光学元件大的2片偏振元件用板材与法拉第转子用板材予以粘结之后,通过切割(dicing)等来进行细分化(芯片(chip)化)时同时形成。

设置有所述记号(阶梯状的切口)的光隔离器用光学元件基本上呈长方体或立方体的形状,多与磁铁一同配置于非磁性的金属板、陶瓷(ceramics)板等基板上而使用(参照专利文献2),或者粘结于光插座(optical receptacle)的光纤插芯(fiber stub)前端部而使用(参照专利文献3)。作为一例,图1表示将设置有记号(阶梯状的切口)的光隔离器用光学元件与磁铁一同配置于基板上的光隔离器。另外,图1中,符号1、符号2表示偏振元件,符号3表示法拉第转子,符号4表示记号(阶梯状的切口),符号5、符号6表示磁铁,符号7表示平板状的基板,符号8表示偏振元件1的偏振方向。

而且,在将光隔离器组装至半导体激光模块(laser module)中时,为了避免从光隔离器用光学元件的光入射面而来的反射光返回半导体激光元件,还采用有相对于垂直于光轴的面而倾斜地配置光隔离器的方法。进而,还取代相对于垂直于光轴的面而倾斜地配置整个光隔离器的所述方法,而采用如下方法,即:以入射面相对于光轴而以固定角度倾斜的方式,使光隔离器用光学元件其自身倾斜地被切出(参照专利文献4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开平08-094972号公报(参照图3)

专利文献2:日本专利特开2001-091899号公报(参照图4)

专利文献3:日本专利第4776934号公报(参照图8)

专利文献4:日本专利特开2001-174752号公报(参照图4)

发明内容

[发明所要解决的问题]

然而,伴随光隔离器的低价格化,要求光隔离器用光学元件中的芯片尺寸(chipsize)的小型化。这是因为,通过使光隔离器用光学元件的芯片尺寸小型化,从而由将大面积法拉第转子用板材与大面积偏振元件用板材予以贴合而成的大面积层叠体所获得的光隔离器用光学元件的个数将增加,相应地,每1个光隔离器用光学元件的成本(cost)得以降低。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SMM精密有限公司,未经SMM精密有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410571766.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top