[发明专利]PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法有效

专利信息
申请号: 201410572818.0 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN104445058A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 许利苹;魏璐;曹艳华;陈艳霞;宋永杨;王书琪;张学记;王树涛 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;B82Y40/00
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: ps 小球 纳米 颗粒 复合 系统 有序 组装 方法
【权利要求书】:

1.一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,具体步骤包括:1)合成亲水PS球,2)配制PS悬浮液,3)制备光刻阵列硅柱模板,4)亲水处理阵列硅柱和硅片基底,5)组装PS小球与纳米金复合系统。

2.根据权利要求1所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤1)所述亲水PS球的合成是:

过柱子纯化的PS通氮气30min,后加入引发剂过硫酸铵70℃下反应24h,即可得到大小形状均一的PS小球。

3.根据权利要求1所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤2)所述PS悬浮液的配置是:

以十二烷基硫酸钠配置成浓度为0.5mg/mL—10mg/mL的表面活性剂溶液,然后将PS分散于活性剂溶液中,制备成悬浮液。

4.根据权利要求1所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤3)所述光刻阵列硅柱模板的制备是:

通过图像复制和化学腐蚀,在硅片上深度刻蚀出所需要的阵列硅柱。

5.根据权利要求1所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤4)所述硅片基底的处理是:

将得到的硅片切成1cm×1cm的片材,并依次经过丙酮、乙醇和超纯水的超声清洗,然后将硅片置于大烧杯中,加入体积比为1:3的双氧水和浓硫酸,浸泡1h,最后取出硅片用清水反复冲洗,吹干待用。

6.根据权利要求1所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤4)所述阵列硅柱和硅片基底的亲水处理是:

将阵列硅柱和硅片基底放入等离子体表面处理仪,设置好参数,通过高速氧的等离子体处理将其表面亲水化。

7.根据权利要求1所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤5)所述PS小球与纳米金复合系统的组装方式是:

将10μL的PS悬浮液滴加在硅片基底上,然后覆盖阵列硅柱模板,组成“三明治”结构,在30℃温度下进行蒸发组装形成阵列,然后通过物理镀金技术将纳米金覆盖在PS小球上构成微纳复合系统。

8.根据权利要求1或2所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤1)所述亲水PS球的合成是用乳液聚合法即纯化后苯乙烯加入氯化钠和水并通氮气30min,后加入引发剂过硫酸铵合成,氯化钠的加入量是苯乙烯单体总量2%—5%,过硫酸铵的加入量为苯乙烯单体总量的0.1%—2%。

9.根据权利要求1或4所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤4)所述的制备阵列硅柱需要先将光刻胶均匀涂覆在洁净的硅片上,利用制备好的光掩模板进行曝光,通过显影液得到与掩模板相同的图案结构,再进行深度刻蚀得到所需的阵列硅柱结构。

10.根据权利要求1或7所述一种PS小球和金纳米颗粒的微纳复合系统的有序组装方法,其特征在于:步骤5)所述的组装PS小球与纳米金复合系统是得到亲水表面后,要在5min之内完成阵列硅柱、PS悬浮液、硅片基底三明治夹层的构建。

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