[发明专利]用于以减少处理时间产生聚焦超声波的装置有效

专利信息
申请号: 201410575012.7 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN104548393B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: L·布拉斯特;让-伊夫·沙普隆;N·吉伦;F·沙维尔;E·勃朗 申请(专利权)人: EDAPTMS法国公司;健康医药国家研究院
主分类号: A61N7/02 分类号: A61N7/02
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张浴月
地址: 法国沃比*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 用于 减少 处理 时间 产生 聚焦 超声波 装置
【权利要求书】:

1.一种用于通过应用聚焦超声波在处理区(T)中对生物组织进行热处理的装置,所述装置包括:

-超声波探头(2),将聚焦的超声能量传送到位于离所述超声波探头一距离处的聚焦区(Z)中;

-控制系统(5),用于控制所述超声波探头(2),以便沿预定扫描路径轨迹移动所述聚焦区(Z),并且用于控制以重复的超声波脉冲的形式传送的超声波功率,每个超声波脉冲由等待时间分隔开并具有发射时间,发射时间对超声波脉冲的重复周期的比率定义为占空比,特征在于,所述控制系统(5)包括:

探头移动系统(7),用于确保:

所述聚焦区(Z)沿第一方向(X)从所述处理区(T)的远端点(D)移动到所述处理区的近端点(P),以便并置基础处理区并建立基础处理区的序列(S);

沿与所述第一方向(X)不同的至少一个第二方向(Y)并置基础处理区的序列(S,S1,S2,S3,...),以便完全覆盖所述处理区(T);

控制电路(6),控制所述超声波探头(2),以便确保被传送到所述聚焦区的超声波功率在所述处理区的远端点(D)和近端点(P)之间减小;

其中所述处理区(T)的远端点(D)距离界面区(I)的深度大于所述近端点(P)距离界面区(I)的深度。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述控制电路(6)输出用于激活所述超声波探头(2)的信号,以便确保通过所述超声波探头(2)传送的用于建立所述基础处理区的序列的超声波脉冲的占空比比率包括在65%到100%之间。

3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述控制电路(6)输出用于激活所述超声波探头(2)的信号,以便确保通过所述超声波探头(2)传送的用于建立所述基础处理区的序列的超声波脉冲的占空比比率包括在85%到100%之间。

4.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,所述探头移动系统(7)用于沿作为第一方向(X)的声轴移动所述聚焦区(Z)。

5.根据权利要求1至2中任一项所述的装置,其特征在于,所述探头移动系统(7)以机械方式移动所述超声波探头(2),以便确保所述聚焦区的移动。

6.根据权利要求1至2中任一项所述的装置,其特征在于,所述超声波探头(2)包括多个超声波发射器,并且所述探头移动系统(7)以电子方式控制所述超声波发射器,以便确保所述聚焦区(Z)的移动。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述控制系统(5)输出信号,以激活所述超声波发射器,使得所述超声波探头的孔径数,也就是由所述激活的超声波发射器所形成的所述超声波探头(2)的聚焦长度对直径的比率,在所述聚焦区(Z)从远端点(D)通往近端点(P)时减少。

8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述控制系统(5)输出信号以激活所述超声波发射器,以确保所发射的超声波功率根据校正法则pi减少:

pi=Prefexp(Adi)

其中:

pi=深度为di(cm)的聚焦区所需的功率(瓦特)

Pref=参考功率(瓦特)

A=衰减系数(cm-1)。

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