[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃在审
| 申请号： | 201410577343.4 | 申请日： | 2014-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN105619963A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 苍利民;郭松昌;万志刚;丁万勇;蒋振伟 | 申请（专利权）人： | 河南安彩高科股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B17/06 | 分类号： | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/23;C03C17/34 |
| 代理公司： | 郑州立格知识产权代理有限公司 41126 | 代理人： | 王晖 |
| 地址： | 455000*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【权利要求书】：
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括覆盖在玻璃上的镀膜，其特征在于：所述的镀膜包括光波长转换材料层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的光波长转换材料层上设置有掺硼氧化锌层，在掺硼氧化锌上设置有掺氟氧化锡层。
3.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的铋铕共掺杂的氧化钆薄膜厚度为5-50nm，所述的铕镱共掺杂的氧化钇薄膜厚度为5-50nm。
4.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃表面依次设置有光波长转换材料层、掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜，所述的光波长转换材料层的厚度小于100nm，所述的掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层的厚度均在100-300nm之间。
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