[发明专利]离子溅射镀膜机

权利要求书

1.一种离子溅射镀膜机，它包括真空室、大阀、离子源、多光束光学膜厚仪的观察窗、高真空泵、加热器和离子中和器，其特征在于：它还包括移动镀膜靶和旋转基板支架，移动镀膜靶设在真空室内的底部且位于旋转基板支架中的镀膜夹具的下方，移动镀膜靶能在真空室内作直线运动，旋转基板支架设在真空室内的上方且能上下移动，多光束光学膜厚仪的观察窗设在真空室的外壁上并位于旋转基板支架的旋转半径上。

2.根据权利要求1所述的一种离子溅射镀膜机，其特征在于：所述移动镀膜靶由直线运动机构、靶材支架和靶材组成，靶材的两侧通过转轴设在靶材支架的上端且使靶材能够任意旋转以便任意调整靶材表面与镀膜夹具的镀膜面的角度，靶材支架的下端设在直线运动机构上以使靶材在真空室内作直线运动。

3.根据权利要求1所述的一种离子溅射镀膜机，其特征在于：所述旋转基板支架由磁流体转轴、波纹管、法兰和镀膜夹具组成，磁流体转轴的下端通过法兰与镀膜夹具的上端面连接，磁流体转轴的上部通过法兰与波纹管的上端连接，波纹管的下端与真空室顶面连接以使镀膜夹具能在真空室内作上下移动。

4.根据权利要求2所述的一种离子溅射镀膜机，其特征在于：所述直线运动机构由齿条、齿轮和磁流体旋转密封组成，齿条设在靶材支架的底部，齿轮设在磁流体旋转密封的上端且与齿条相啮合，磁流体旋转密封设在真空室的底面上。

5.根据权利要求2所述的一种离子溅射镀膜机，其特征在于：所述直线运动机构还能由丝杠、丝母、轴承和磁流体旋转密封组成，丝母设在靶材支架的底部，丝杠设在丝母中并通过轴承装在真空室的底面上，丝杠一端与磁流体旋转密封联接，磁流体旋转密封设在真空室上。

6.根据权利要求2所述的一种离子溅射镀膜机，其特征在于：所述直线运动机构还能是直线电机，直线电机的初级设在靶材支架的底部，直线电机的次级设在真空室的底面上。