[发明专利]一种新型强约束流可控抛光装置有效
申请号: | 201410578473.X | 申请日: | 2014-10-24 |
公开(公告)号: | CN104308749A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 袁巧玲;文东辉;单晓杭;孙建辉;钟和东 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24C3/02 | 分类号: | B24C3/02;B24C5/04;B24C9/00 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 吴秉中 |
地址: | 310014 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 约束 可控 抛光 装置 | ||
1.一种新型强约束流可控抛光装置,用于对待加工工件表面进行抛光,其特征在于:包括喷嘴护套可动机构、间隙控制机构、磨粒流输入座、预压系统和固定板,喷嘴护套可动机构通过直线轴承安装在竖直放置的固定板上,磨粒流输入座套装在喷嘴护套可动机构上并且通过固定螺栓固定安装在固定板上,预压系统装在所述喷嘴护套可动机构顶部用于对喷嘴护套可动机构施加预压力,间隙控制系统用于监控所述喷嘴护套可动机构的移动距离;
所述喷嘴护套可动机构包括竖直放置的磨粒流直管、喷嘴和喷嘴护套,所述喷嘴装在磨粒流直管的底端,所述磨粒流直管上开有通孔并与设置在磨粒流输入座套上的磨粒流输入孔对齐。
2.根据权利要求1所述的一种新型强约束流可控抛光装置,其特征在于:所述间隙监控系统包括位移传感器、传感器安装座和传感器检测板,所述位移传感器通过传感器安装座与磨粒流输入座固接,所述传感器检测板固定在磨粒流直管上,所述位移传感器用于测量所述位于传感器与所述传感器检测板的相对移动距离。
3.根据权利要求1所述的一种新型强约束流可控抛光装置,其特征在于:所述预压系统为砝码型预压系统,包括砝码支座板、砝码安装板,所述砝码支座板通过砝码安装板固定在磨粒流直管顶端。
4.根据权利要求1所述的一种新型强约束流可控抛光装置,其特征在于:所述预压系统为气缸型预压系统,包括安装在所述磨粒流直管顶端的压盖、气缸安装板、气缸和气缸支架,所述气缸通过气缸支架固定在气缸安装板上,所述气缸安装板固接所述固定板,所述气缸的活塞杆连接所述压盖。
5.根据权利要求4所述的一种新型强约束流可控抛光装置,其特征在于:所述气缸型预压系统上还设有精密调压阀,通过调节精密调压阀控制输出气缸的大小来控制预压力的大小。
6.根据权利要求1所述的一种新型强约束流可控抛光装置,其特征在于:所述磨粒流直管上通孔的两侧开有环槽,用于加装O型密封圈将所述磨粒流直管与所述磨粒流输入座套密封处理。
7.根据权利要求1所述的一种新型强约束流可控抛光装置,其特征在于:所述喷嘴为锥形结构喷嘴。
8.根据权利要求1所述的一种新型强约束流可控抛光装置,其特征在于:所述喷嘴护套采用耐磨的高分子材料制成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学,未经浙江工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410578473.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。