[发明专利]OLED柔性显示器件

说明书

技术领域

本发明涉及OLED显示技术，尤其是指一种OLED柔性显示器件。

背景技术

现有的OLED柔性显示器件(FlexibleOLED)，一般采用顶发射方式 (topemission)，传统的顶发射方式OLED柔性显示器件的结构如图1所 示，从下至上依次包括：柔性基板91、阳极层92、空穴注入层(HIL) 93、空穴传输层(HTL)94、有机发光层(EML)95、电子传输层(ETL) 96、电子注入层(EIL)97、阴极层98以及覆盖层99。

其中，先在柔性基板91上蒸镀阳极层92，阳极层92采用ITO/Ag/ITO 薄膜，厚度为100nm～200nm；再在阳极层92上依次蒸镀有机层：空穴注 入层(HIL)93、空穴传输层(HTL)94、有机发光层(EML)95、电子 传输层(ETL)96以及电子注入层(EIL)97；再蒸镀阴极层98，阴极层 98采用Mg:Ag合金，厚度为15nm～25nm；最后再在阴极层98上制备一 层覆盖层99，覆盖层99通常采用有机材料。

为得到高纯色和高效率，一般是通过调节其微腔结构(即有机层HIL、 HTL、EML、ETL、EIL中的一层或几层)，实现高纯色与高效率。然而， 传统的OLED柔性显示器件，普遍存在效率及寿命过低的问题，主要是 由于OLED柔性显示器件的封装方式为薄膜封装，在挠曲过程中，薄膜 封装可能会形成细小的通道，使水氧到达OLED柔性显示器件。又因为 覆盖层通常采用有机材料，其阻水氧能力很弱，而阴极层采用较为活泼的 Mg:Ag合金，接触水氧后极易发生反应导致器件失效。

发明内容

有鉴于上述现有技术中OLED柔性显示器件接触水氧后极易发生反 应导致器件失效问题，为了解决这一问题，本发明提供了一种OLED柔 性显示器件，包括：

柔性基板，所述柔性基板上依次制备有阴极层、有机发光单元、阳极 层以及覆盖层，所述覆盖层的材料为具有耐水氧性的无机材料TiO₂或 SiC。

本发明的OLED柔性显示器件，通过将传统的OLED结构进行倒置， 将容易氧化的阴极层直接镀设在柔性基板上，再在阴极层上覆盖有机发光 单元、阳极层以及覆盖层，达到保护阴极层不受氧化的目的。另外，采用 具有耐水氧性的无机材料TiO₂或SiC作为覆盖层的材料，可增强OLED 器件的阻水氧能力，有效提高OLED器件的寿命。并且，TiO₂和SiC的 折射率较高，可进一步提高OLED器件的光纯度。

本发明OLED柔性显示器件的进一步改进在于，所述覆盖层的厚度 为50nm～80nm。综合覆盖层的折射率，将覆盖层的厚度设置在50nm～80nm 范围内，可进一步提高OLED器件的光纯度。

本发明OLED柔性显示器件的进一步改进在于，所述阳极层的材料 为Au、Pt或Ti。Au、Pt或Ti的稳定性好并且功函数高，较好的稳定性 可保护有机发光单元，较高的功函数可有效提高空穴的注入效率。

本发明OLED柔性显示器件的进一步改进在于，所述阳极层的厚度 为10nm～20nm。由此将阳极层设为半反半透层(反射率与透射率均为 50％)，可提高OLED器件的微腔效应。

本发明OLED柔性显示器件的进一步改进在于，所述阴极层的材料 为Mg。Mg的功函数较低，可有效提高电子的注入效率。

本发明OLED柔性显示器件的进一步改进在于，所述阴极层的厚度 为100nm～200nm。综合阴极材料的折射率，将阴极层的厚度设为 100nm～200nm范围内，形成一个全反射阴极，可提高OLED器件的微腔 效应。

本发明OLED柔性显示器件的进一步改进在于，所述有机发光单元 包括电子注入层、电子传输层、有机发光层、空穴传输层以及空穴注入层， 所述的电子注入层、电子传输层、有机发光层、空穴传输层以及空穴注入 层依次制备于所述阴极层上。

本发明OLED柔性显示器件的进一步改进在于，所述空穴注入层包 括第三空穴注入层、第二空穴注入层以及第一空穴注入层，所述的第三空 穴注入层、第二空穴注入层以及第一空穴注入层依次制备于所述空穴传输 层上。不同的空穴注入层作用不同，第一空穴注入层的主要作用是增加注 入效率，第二空穴注入层及第三空穴注入层的主要作用为增强微腔效应。

附图说明