[发明专利]厚膜基板无焊料共晶贴装方法有效
申请号: | 201410579029.X | 申请日: | 2014-10-27 |
公开(公告)号: | CN104319242A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 李杰;车勤;陈希龙;刘昕 | 申请(专利权)人: | 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林;耿英 |
地址: | 215163 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 厚膜基板无 焊料 共晶贴装 方法 | ||
1. 一种厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,包括以下步骤:
1)基板加热:将基板加热到金-硅共晶体临界温度以上;
2)拾取芯片:由贴装设备上的芯片吸头夹持芯片边缘,通过真空吸附拾取芯片;
3)摩擦贴装:在基板的焊接区域上将芯片与基板进行摩擦,芯片的硅材料与基板的金熔合形成金-硅共晶体;
4)冷却:冷却后形成焊接界面,使芯片焊接至基板上。
2.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,所述芯片是硅材料,耐受最高450℃的温度,芯片背面具有金保护层,金保护层厚度0.1μm~0.3μm,保护层与硅材料之间无其它阻挡层。
3.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,基板的焊接区域上,由金导体浆料丝网印刷成膜,导体烧结膜厚5μm~12μm。
4.根据权利要求3所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,丝网印刷选用丝网的目数为300目~450目。
5.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,芯片的摩擦振幅设定为15μm~30μm,摩擦频率设定为2~5次/每秒,单只芯片摩擦焊接时间不超过20秒。
6.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,基板加热温度设定为380℃~420℃。
7.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,贴装设备采用喷氮气对摩擦贴装进行保护,氮气流量设定为60 l/h~80 l/h。
8.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,所述基板为氧化铝陶瓷基板或LTCC基板。
9.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,芯片吸头为与芯片形状相同的四边形,朝向芯片的吸嘴贯穿面上设置通孔,采用真空吸附芯片;吸嘴贯穿面四边连接2个或4个倾斜的侧壁,侧壁倾斜形成外大内小的喇叭口形。
10.根据权利要求1所述的厚膜基板无焊料共晶贴装方法,其特征是,倾斜的侧壁为2个时,2个侧壁相对设置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造