[发明专利]一种导电走线制作工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种导电走线的制作工艺，尤其是一种触摸屏的导电走线制作工艺。

背景技术

随着科学技术的发展，触摸屏已逐渐取代按键应用于手机、笔记本等个人数码产品，近年来，电磁炉冰箱等家用电器以及ATM机、自助服务终端机等生活设施也开始应用触摸屏进行操作，触摸屏已经渗透到人们生活的各个方面。

现有的触摸屏制作方法中，一种是采用ITO(Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)作为原材料，在利用溅射、蒸镀等工艺将ITO铺设于绝缘基材上，并在黄光工作室的条件下，通过干式刻蚀或者湿式刻蚀工艺形成导电走线。另一种为金属网格的制备，通常是通过印刷的方式，在绝缘基材上形成导电走线。还有一种方式是通过在绝缘基材上设置走线凹槽，在走线凹槽中填充导电材料，构成导电走线。

上述两种制备方式中，ITO为原材料的制备方法随让刻蚀技术相对成熟，但是阻抗高，影响电容屏的反应速度，在多指划线时会有延时产生，并且ITO的制作成本相对较高。而金属网格的制备过程中，金属网格的走线宽度受到限制，金属网格的走线宽度为5um时，能够在触摸屏表面看到走线，影响视觉效果，走线宽度达到2um时，光线发射大，会产生雾化效果，造成画面模糊，并且，通过印刷的方式的进行制备时，网格容易不均匀，合格率不足。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种制作成本低、走线宽度均匀且不受限制的导电走线制作工艺。

为了实现上述目的，本发明提供一种导电走线的制作工艺，其工艺步骤包括：

(1)铺设工艺，将绝缘基底放置于工作台面上，其四周具有遮挡，将纳米导电材料颗粒注入绝缘基底表面，使其均匀分布；

(2)烧结工艺，根据预先设计的导电线路走线方式，使用高能光束聚光在需要烧结的位置，进行低温烧结；

(3)回收工艺，将未被高能光束烧结的纳米导电材料颗粒回收至回收盘中。

进一步的，所述铺设工艺中，将所述绝缘基底放置于所述工作台面的凹槽内，并使用框形治具压住绝缘基底。或者将所述绝缘基底放置于所述工作台面上，使用框形治具压住绝缘基底的四周。

进一步的，所述铺设工艺中，通过振动，使所述纳米导电材料颗粒均匀分布在所述绝缘基底上。或者通过治具刮擦操作，使所述纳米导电材料颗粒均匀分布在所述绝缘基底上。

进一步的，所述铺设工艺中，将纳米导电材料颗粒置于所述绝缘基底的中心位置，通过水平转动所述绝缘基底，使所述纳米导电材料颗粒均匀分布在所述绝缘基底上。

还提供了另一种导电走线的制作工艺，其工艺步骤包括：

(1)铺设工艺，将绝缘基底放置于工作台面上，所述绝缘基底具有根据预先设计的导电线路设置的沟槽，将纳米导电材料颗粒注入绝缘基底表面的沟槽内；

(2)烧结工艺，根据预先设计的导电线路走线方式，使用高能光束聚光在需要烧结的位置，进行烧结；

这两种导电走线制作工艺中，所述烧结工艺，根据纳米导电材料颗粒的直径，设置调节烧结的温度和时间。

进一步的，所述烧结工艺中，所述单个高能光束工作或者多个高能光束共同工作。

与现有技术相比，本发明的导电走线制作工艺无需在黄光工作室进行，剩余的纳米导电材料颗粒可以进行回收，制作成本低，速度快。并且高能光束的工艺精度高，纳米导电材料颗粒材料均匀，走线宽度均匀，并能够完成各种图形和线宽的走线。

附图说明

图1是本发明一种导电走线制作工艺的流程图。

图2是本发明导电走线制作工艺的具体步骤。

图3是本发明另一种导电走线制作工艺的流程图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。

触摸屏包括绝缘基底和设置于绝缘基底上的导电走线，绝缘基底为曲面结构或者平面结构，并具有一定的透明度，采用玻璃、石英、金刚石等，主要起到绝缘和支撑的作用。需要说明的是上述材料的列举，只是举例说明，并不是限定绝缘基底的材料。导电走线采用纳米导电材料颗粒，可以是银、铜等，纳米导电材料颗粒的直径小于100纳米，所述纳米导电材料颗粒直径的大小关系到导电走线的线宽。通过将所述纳米导电材料颗粒在所述绝缘基底上形成图形，实现触摸检测的目的，因本发明主要介绍的是导电走线的制作工艺，因此对导电走线的图形未做具体介绍，可根据需要设置。需要说明的是上述材料的列举，只是举例说明，并不是限定绝缘基底和纳米导电材料颗粒的材料。