[发明专利]一种具有低折射率材料的LED图形化衬底的制备方法

权利要求书

1.一种具有低折射率材料的LED图形化衬底的制备方法，包含以下步骤：

步骤1：在图形衬底上沉积低折射率材料；

步骤2：在低折射率材料表面旋涂第一光刻胶；

步骤3：利用光刻技术，对没有图形的地方进行光刻，而使图形衬底上的图形被光刻胶保护；

步骤4：利用光刻胶做为掩摸，干法刻蚀掉无掩摸保护处的低折射率材料；

步骤5：湿法去除光刻胶并清洗，完成图形衬底的制备。

2.如权利要求1所述的制备方法，其中，所述图形衬底为蓝宝石图形衬底、碳化硅图形衬底、氮化镓图形衬底或氮化铝图形衬底。

3.如权利要求1所述的制备方法，其中，所述图形衬底上的图形为凸出图形或凹坑图形。

4.如权利要求3所述的制备方法，其中，所述凸出图形包括圆锥或圆柱，所述凹坑图形包括圆洞或倒圆锥。

5.如权利要求1所述的制备方法，其中，所述低折射率材料为折射率在1-2.4之间的材料。

6.如权利要求5所述的制备方法，其中，所述低折射率材料包括氧化硅和氮化硅。

7.如权利要求1所述的制备方法，其中，步骤1中沉积的低折射率材料的的厚度为10-1000nm。