[发明专利]栅偏振元件

权利要求书

1.一种栅偏振元件，能够使紫外线偏振，其特征在于，

具备透明基板、和设在透明基板上的栅层；

栅层是由多个线状部构成的条纹状，各线状部由在接触到由于紫外线生成的氧化性气体时能够劣化的材料形成；

栅层被将氧化性气体阻断的气体阻断层覆盖，各线状部之间的空间为被气体阻断层封闭的空间；

气体阻断层在偏振的光的波长中是透明的，

气体阻断层进入到各线状部之间的空间中而将各线状部的侧面覆盖直至该侧面的下端，并且在各线状部之间不覆盖透明基板，

气体阻断层在各线状部的侧面处的平均厚度是各线状部的宽度的50％以下，

气体阻断层在各线状部的上表面上的厚度为100nm以上且500nm以下，

上述气体阻断层在上述各线状部的侧面处的厚度在上述各线状部的高度方向上不均匀，在上述各线状部的顶部附近厚，在上述各线状部的底部附近薄。

2.如权利要求1所述的栅偏振元件，其特征在于，

上述各线状部由光吸收性的无机电介体形成；

上述栅层在光沿上述栅层的厚度方向传输的过程中，和偏振轴朝向与各线状部的长度方向垂直的方向的偏振光相比，偏振轴朝向各线状部的长度方向的偏振光被更多地吸收，从而使光偏振。

3.如权利要求1或2所述的栅偏振元件，其特征在于，

上述气体阻断层对于全部上述线状部将相邻的线状部之间的空间封闭。

4.如权利要求1或2所述的栅偏振元件，其特征在于，

上述气体阻断层在上述各线状部的侧面处的平均厚度是上述各线状部的宽度的30％以下。

5.如权利要求1或2所述的栅偏振元件，其特征在于，

上述气体阻断层由形成在上述各线状部之上的第一层、和形成在第一层之上的第二层构成，第二层由比第一层致密的膜形成。