[发明专利]硅铈抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种硅铈抛光液，采用纳米级二氧化铈粉体、微米级二氧化铈粉体、胶体二氧化硅作为研磨材料，其特征在于：所述抛光液中含有3~6wt%的微米级二氧化铈粉体，1.20~1.75wt%的纳米级二氧化铈粉体，10~25wt%的胶体二氧化硅，0.3~0.8wt%的琥珀酸酯或其盐，0.5~1.5wt%的阴离子分散剂，和余量的水；其中所述微米级二氧化铈粉体的粒径为0.5~2.0μm；所述纳米级二氧化铈粉体的粒径为20~100 nm；其中，所述纳米级二氧化铈粉体经过以下表面处理：

（1）将质量为纳米级二氧化铈粉体8~10wt%的改性剂加入去离子水中，在800~1000 rpm的搅拌速度下搅拌10~15min中形成浓度为1.5~2.0wt%的第一体系；

（2）将纳米级二氧化铈粉体，以及质量为纳米级二氧化铈粉体8~10wt%的丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵在转速为800~1000 rpm的搅拌速度下分散到甲基丙烯酸缩水甘油酯中得到第二体系；所述甲基丙烯酸缩水甘油酯的质量为纳米级二氧化铈粉体质量的2.5~3.0倍；

（3） 将步骤（2）得到的第二体系加入到步骤（1）得到的第一体系中，在1800~2000 rpm的搅拌速度下搅拌20~25 min得到混合液，并转移到反应器中，在N₂气氛保护下，持续搅拌加入甲基丙烯酸缩水甘油酯质量0.5~1.0wt%的过氧化二月桂酰，然后在80~85℃的条件下反应2个小时，然后经过过滤、洗涤和干燥即可；所述改性剂为具有以下通式结构的化合物：

并且，R为含有10~15个碳的烷基；R'为 (CH₂)_nSO₃Na，n为3~5的整数。

2.根据权利要求1所述的硅铈抛光液，其特征在于：粒径为1.5 μm以下的微米级二氧化铈粉体占微米级二氧化铈粉体质量的60%以上，粒径为1.8 μm以上的微米级二氧化铈粉体占微米级二氧化铈粉体质量的5%以下；粒径为50 nm以下的纳米级二氧化铈粉体占纳米级二氧化铈粉体质量的30~35%，粒径为80 nm以上的纳米级二氧化铈粉体占纳米级二氧化铈粉体质量的10~15%。

3.根据权利要求1所述的硅铈抛光液，其特征在于：所述琥珀酸酯或其盐为烷基酚醚磺化琥珀酸酯、磺基琥珀酸二乙酯钠盐，和/或月桂醇聚氧乙烯醚磺基琥珀酸单酯二钠盐。

4.根据权利要求1所述的硅铈抛光液，其特征在于：所述阴离子分散剂为丙烯酰胺-2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸共聚物。