[发明专利]一种双色真空镀膜工艺有效
| 申请号： | 201410591612.2 | 申请日： | 2014-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN104404448A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 石春放;段宁波;段小燕 | 申请（专利权）人： | 深圳市鑫景源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/58;B44C1/22 |
| 代理公司： | 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 | 代理人： | 杜启刚 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种双色真空镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：
101)在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜；
102)在第一PVD膜上涂覆漆膜；
103)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；
104)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；
105)去除漆膜。
2.根据权利要求1所述的双色真空镀膜工艺，其特征在于，所述的基材为金属基材或陶瓷基材。
3.根据权利要求1所述的双色真空镀膜工艺，其特征在于，步骤102中涂覆漆膜采用电泳、喷涂、浸涂、滚涂或刷涂工艺；漆膜固化后耐温180℃，能被碱性脱漆溶液脱除。
4.根据权利要求3所述的双色真空镀膜工艺，其特征在于，漆膜材料采用丙烯酸树脂或醇酸树脂。
5.根据权利要求1所述的双色真空镀膜工艺，其特征在于，在步骤103中，用镭雕机在漆膜上镭雕所述的图案，镭雕后的图案是平面图案或凹陷的立体的图案。
6.根据权利要求1所述的双色真空镀膜工艺，其特征在于，在步骤105中，漆膜用碱性脱漆水脱除。
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