[发明专利]剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法

权利要求书

1.一种光刻胶去除用剥离液，其中所述剥离液由非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂组成，

所述非质子性极性溶剂包括N-甲基-2-吡咯烷酮和N,N-二甲基丙酰胺，

其中所述光刻胶去除用剥离液包含：

1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、

1～10重量部的所述胺类化合物、

1～30重量部的所述质子性极性溶剂。

2.根据权利要求1所述的光刻胶去除用剥离液，其特征在于，

所述非质子性极性溶剂还包含由二甲亚砜、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基咪唑、γ-丁内酯、环丁砜以及四氢糠醇组成的群中选择的一种以上物质。

3.根据权利要求1所述的光刻胶去除用剥离液，其特征在于，

所述胺类化合物包含由1-(2-羟乙基)哌嗪、1-(2-氨乙基)哌嗪、1-(2-羟乙基)甲基哌嗪、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪以及1-氨基-4-甲基哌嗪组成的群中选择的一种以上物质。

4.根据权利要求1所述的光刻胶去除用剥离液，其特征在于，

所述质子性极性溶剂包含由乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇甲醚、三乙二醇乙醚、三乙二醇丁醚、二丙二醇甲醚以及二乙二醇二甲醚组成的群中选择的一种以上物质。

5.根据权利要求1所述的光刻胶去除用剥离液，其特征在于，

所述光刻胶去除用剥离液还包含防腐蚀剂或表面亲水剂。

6.一种显示装置制造方法，包括：

在基板上形成第一电极的步骤；

在所述第一电极上形成沿第一方向延伸的牺牲层的步骤；

在所述牺牲层上沿与所述第一方向交叉的第二方向形成第二电极的步骤；

利用剥离液剥离所述牺牲层，形成隧道状空洞的步骤；

其中所述剥离液由非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂组成，并且

所述非质子性极性溶剂包括N-甲基-2-吡咯烷酮和N,N-二甲基丙酰胺，

其中所述剥离液包含：

1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、

1～10重量部的所述胺类化合物、

1～30重量部的所述质子性极性溶剂。

7.根据权利要求6所述的显示装置制造方法，其特征在于，

所述牺牲层由光刻胶形成。

8.根据权利要求6所述的显示装置制造方法，其特征在于，

还包括在所述基板上形成薄膜晶体管的步骤。

9.根据权利要求6所述的显示装置制造方法，其特征在于，

还包括在所述基板上形成彩色滤光器的步骤。

10.根据权利要求6所述的显示装置制造方法，其特征在于，

还包括在所述基板上形成黑矩阵的步骤。

11.根据权利要求6所述的显示装置制造方法，其特征在于，

还包括在所述隧道状空洞形成图像显示层的步骤。

12.根据权利要求6所述的显示装置制造方法，其特征在于，

所述非质子性极性溶剂还包含由二甲亚砜、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基咪唑、γ-丁内酯、环丁砜以及四氢糠醇组成的群中选择的一种以上物质。

13.根据权利要求6所述的显示装置制造方法，其特征在于，

所述胺类化合物包含由1-(2-羟乙基)哌嗪、1-(2-氨乙基)哌嗪、1-(2-羟乙基)甲基哌嗪、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪以及1-氨基-4-甲基哌嗪组成的群中选择的一种以上物质。