[发明专利]透明导电性薄膜的制造方法在审
申请号: | 201410594622.1 | 申请日: | 2010-09-28 |
公开(公告)号: | CN104360765A | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 中岛一裕;菅原英男;梨木智刚 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 制造 方法 | ||
本申请是申请日为2010年9月28日、申请号为201080042102.X、发明名称为“透明导电性薄膜及触摸面板”的申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及透明导电性薄膜及使用其的触摸面板。
背景技术
在可见光线区域透明且具有导电性的透明导电性部件,除了用于液晶显示器、场致发光显示器等显示器、触摸面板等的透明电极以外,还用于物品的防静电、电磁波阻断等。
以往,作为透明导电性部件,已知的是在玻璃上形成有氧化铟薄膜的所谓导电性玻璃,但是导电性玻璃由于基材为玻璃,因此挠性、加工性差,根据用途的不同,有时使用困难。因此,近年来,从挠性、加工性以及耐冲击性优异、轻量等优点考虑,使用将以聚对苯二甲酸乙二醇酯为首的各种塑料薄膜作为基材的透明导电性薄膜。
作为触摸面板等中用于检测输入位置的透明导电性薄膜,已知有具备具有规定的图案形状的透明导电层的透明导电性薄膜。但是,将透明导电层图案化时,图案部和图案开口部(非图案部)的差异明确化,有显示元件的外观变差之虞。
为了改善将透明导电层图案化时的外观,例如,在下述专利文献1中提出了在透明基材和透明导电层之间形成透明电介质层的方案。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-76432号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,在以往的透明导电性薄膜中,图案部和图案开口部的正下方之间的反射光的色相的差异导致图案部和图案开口部的边界明确化,其结果,有显示元件的外观变差之虞。
因此,本发明提供透明导电层进行了图案化的、可以抑制由图案部和图案开口部的正下方之间的反射光的色相的差异导致的外观恶化的透明导电性薄膜和使用其的触摸面板。
用于解决问题的方案
为了达成上述目的,本发明的透明导电性薄膜的特征在于,其为在透明基材上依次形成有第1透明电介质层及透明导电层的透明导电性薄膜,上述透明导电层通过图案化形成有图案部和图案开口部,在将对上述图案部照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*P及b*P、将对上述图案开口部的正下方照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*O及b*O时,满足0≤|a*P-a*O|≤4.00的关系,且满足0≤|b*P-b*O|≤5.00的关系。需要说明的是,上述“反射光”是指,利用碘钨灯,以10度入射角从透明导电层侧向图案部或图案开口部正下方照射白色光时的反射光。
利用本发明的透明导电性薄膜,由于图案部和图案开口部正下方之间的反射光的色相的差异得到抑制,因此难以辨别图案部和图案开口部,能够提供外观良好的透明导电性薄膜。
本发明的透明导电性薄膜优选的是,进一步具有配置在上述第1透明电介质层和上述透明导电层之间的、折射率与上述第1透明电介质层不同的第2透明电介质层。这是因为,能够降低图案部和图案开口部正下方之间的反射率差,从而可进一步抑制图案部和图案开口部的差异。
本发明的透明导电性薄膜进一步具有上述第2透明电介质层时,优选上述第1透明电介质层的光学厚度为3~45nm、优选上述第2透明电介质层的光学厚度为3~50nm、优选上述透明导电层的光学厚度为20~100nm,将上述第2透明电介质层的折射率设为n1、将上述透明导电层的折射率设为n2时,优选满足n1<n2的关系。这是因为,利用该构成,可进一步抑制图案部和图案开口部正下方之间的反射光的色相的差异。另外,由于能够进一步降低图案部和图案开口部正下方之间的反射率差,因此可进一步抑制图案部和图案开口部的差异。需要说明的是,各层的“光学厚度”是指,各层的物理厚度(利用厚度计等测定出的厚度)乘以该层的折射率所得的值。另外,本发明中的折射率是对波长589.3nm的光的折射率。需要说明的是,本发明中,物理厚度仅称为“厚度”。
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