[发明专利]一种具有荷电介质的HEMT器件在审
申请号: | 201410596567.X | 申请日: | 2014-10-29 |
公开(公告)号: | CN104393040A | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
发明(设计)人: | 罗小蓉;熊佳云;杨超;魏杰;周坤;张波;李肇基 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/06 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 李玉兴 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 电介质 hemt 器件 | ||
1.一种具有荷电介质的HEMT器件,包括衬底(1)、位于衬底(1)上层的缓冲层(2)、位于缓冲层(2)上层的势垒层(3)和位于势垒层(3)上层的钝化层(4),所述缓冲层(2)与势垒层(3)形成异质结;所述势垒层(3)上表面两端分别设置有源电极(6)和漏电极(7),在源电极(6)和漏电极(7)之间设置有栅电极(8);其特征在于,所述栅电极(8)与漏电极(7)之间的钝化层中设置有荷电介质区(5),所述荷电介质区(5)带有负电荷。
2.根据权利要求1所述的一种具有荷电介质的HEMT器件,其特征在于,所述栅电极(8)与势垒层(3)之间设置有绝缘栅介质(9),所述绝缘栅介质(9)为绝缘介质材料。
3.根据权利要求2所述的一种具有荷电介质的HEMT器件,其特征在于,所述绝缘栅介质(9)带有负电荷,形成荷电栅介质区(10)。
4.根据权利要求1所述的一种具有荷电介质的HEMT器件,其特征在于,所述栅电极(8)下表面的势垒层(3)中带有负电荷,形成栅下势垒层荷电区(11)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410596567.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板
- 下一篇:OLED显示器
- 同类专利
- 专利分类