[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括显示区和非显示区，其特征在于，所述阵列基板在非显示区的衬底基板上直接形成有加速度计。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述加速度计包括：形成在衬底基板上的隔垫物、至少一个移动电极以及至少一个固定电极，其中，

所述移动电极包括第一固定端、第一质量块、设置在所述第一质量块至少一侧的第一导电部、以及连接所述第一固定端和所述第一质量块的弹性部；

所述固定电极包括第二固定端以及设置在所述第二固定端一侧的第二导电部，其中，

所述第一导电部和所述第二导电部对应叉合；

所述隔垫物设置在所述移动电极第一固定端以及所述固定电极的第二固定端的下面位置处，用于垫高所述固定电极和所述移动电极。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一导电部和所述第二导电部为梳状。

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述加速度计包括两个固定电极和一个移动电极，所述固定电极设置在移动电极相对的两侧，且在相邻移动电极的一侧设置有多个第二导电部；所述移动电极的第一质量块在对应固定电极的两侧分别设置有多个第一导电部。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述弹性部为弯折的电极线。

6.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述加速度计包括一个固定电极和一个移动电极，所述移动电极的第一质量块在对应固定电极的一侧设置有三个平行的第一导电部；

所述固定电极的第二质量块对应设置有两个平行的第二导电部；

其中，所述弹性部为平直的电极线。

7.根据权利要求2-6任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述加速度计还包括固定块，所述固定块至少覆盖所述移动电极的第一固定端，用于固定所述第一固定端。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述加速度计包括：

形成于衬底基板上的固定电极，所述固定电极包括第一部分以及连接于所述第一部分的电极线；

移动电极，所述移动电极包括与所述第一部分相对设置的第二部分、位于所述第二部分相对的两侧的固定部以及连接所述固定部和所述第二部分的弹性部；

隔垫物，所述隔垫物形成于衬底基板上与所述固定部的相对应的位置，用于垫高所述移动电极以使得所述移动电极与所述固定电极之间具有间隙。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第一部分与所述第二部分的结构相同。

10.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述弹性部包括：

围设于所述第二部分四周的框形结构；

设置于所述框形结构的每一个侧边与相应的所述第二部分的一侧之间的弹性连接臂。

11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述弹性连接臂为弯折的电极线。

12.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在所述衬底基板的非显示区形成加速度计。

13.根据权利要求12所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的非显示区形成加速度计具体包括：

经过一次构图工艺在衬底基板上形成隔垫物层以及金属层，其中，所述隔垫物成包括隔垫物，所述金属层包括移动电极和固定电极。

14.根据权利要求13所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述经过一次构图工艺在衬底基板上形成隔垫物层以及金属层具体包括：

在衬底基板上形成第一绝缘薄膜以及金属薄膜；

形成覆盖所述第一绝缘薄膜和金属薄膜的光刻胶；

利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光和显影，显影后形成光刻胶保留部分和光刻胶去除部分，其中，所述光刻胶保留部分对应移动电极、固定电极以及隔垫物的区域；

湿法刻蚀位于光刻胶去除区域的金属薄膜；

干法刻蚀位于光刻胶去除区域的第一绝缘薄膜；

湿法刻蚀位于移动电极第一固定端之外的其他区域的第一绝缘薄膜以及固定电极第二导电部区域的第一绝缘薄膜；

将所述光刻胶剥离。