[发明专利]激光合成光学装置

权利要求书

1.一种激光合成光学装置，其特征在于，该激光合成光学装置具有：

多个半导体激光器阵列；以及

反射元件，其反射从所述多个半导体激光器阵列中的至少1个所述半导体激光器阵列射出的激光光束，

在将从所述多个半导体激光器阵列中的各个半导体激光器阵列射出的激光光束会聚于1个会聚点时，从所述至少1个半导体激光器阵列射出的激光光束在被所述反射元件反射后会聚于所述会聚点。

2.根据权利要求1所述的激光合成光学装置，其中，

所述激光合成光学装置在所述反射元件与所述会聚点之间还具有会聚部，该会聚部将从所述多个半导体激光器阵列中的各个半导体激光器阵列射出的激光光束会聚于会聚点，

沿着激光光束的光轴从所述多个半导体激光器阵列中的各个半导体激光器阵列到所述会聚部的入射面的距离彼此相等。

3.根据权利要求2所述的激光合成光学装置，其中，

所述会聚部具有：

透镜阵列，其具有多个独立地会聚从所述多个半导体激光器阵列中的各个半导体激光器阵列射出的激光光束的会聚透镜；以及

会聚透镜，其设置在所述透镜阵列的出射面侧，将从所述透镜阵列的多个所述会聚透镜射出的多个所述激光光束会聚于所述会聚点，

沿着激光光束的光轴从所述多个半导体激光器阵列中的各个半导体激光器阵列到所述透镜阵列的入射面的距离彼此相等。

4.根据权利要求1所述的激光合成光学装置，其特征在于，

沿着激光光束的光轴从所述多个半导体激光器阵列中的各个半导体激光器阵列到所述会聚点的距离彼此相等，

由所述反射元件反射的激光光束在由该反射元件反射后，在不改变激光光束的光轴角度的状态下到达所述会聚点，

不由所述反射元件反射的激光光束在从所述半导体激光器阵列射出后，在不改变激光光束的光轴角度的状态下到达所述会聚点。

5.根据权利要求4所述的激光合成光学装置，其中，

所述激光合成光学装置在所述会聚点的前级，还具有对激光光束的像差进行校正的像差校正透镜。

6.根据权利要求1～5中的任意一项所述的激光合成光学装置，其特征在于，

所述多个半导体激光器阵列被配置在同一平面上，

在所述多个半导体激光器阵列中，各个半导体激光器阵列的阵列排列方向为垂直于所述同一平面的方向。

7.根据权利要求1～5中的任意一项所述的激光合成光学装置，其中，

所述激光合成光学装置在所述多个半导体激光器阵列各自的出射面侧，还具有使激光光束成为平行光或对激光光束进行会聚的透镜。