[发明专利]一种像素界定层、有机致发光器件及显示装置在审
| 申请号： | 201410601922.8 | 申请日： | 2014-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN104409653A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 侯文军;廖金龙;刘则 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 像素 界定 有机 发光 器件 显示装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种像素界定层，其特征在于，包括：
位于阵列基板上的第一界定层以及位于第一界定层上的第二界定层；
所述第一界定层由亲液无机材料制成；
所述第二界定层由疏液有机材料制成。
2.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述无机材料包括SiO2或SiNX。
3.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述有机材料包括聚酰亚胺光刻胶、亚克力类光刻胶、有机绝缘材料。
4.一种有机致发光器件，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的像素界定层。
5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求4的有机致发光器件。
6.一种像素界定层的制作方法，其特征在于，包括：
步骤S1、在阵列基板上制备一层亲液无机材料；
步骤S2、对无机材料表面进行疏液性能的处理；
步骤S3、在无机材料表面喷墨打印疏液有机材料，并形成像素区域的图案；
步骤S4，去除相邻像素区域之间裸露的无机材料。
7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S2包括：对无机材料表面采用四氟化碳、氟化硅烷处理，使得无机材料的表面水的接触角在60-120°之间。
8.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S3包括：在无机材料表面进行聚酰亚胺光刻胶的喷墨打印，先进行纵向打印然后进行横向打印，形成像素区域的图案。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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