[发明专利]基板处理设备

权利要求书

1.一种基板处理设备，包括：

指引部，其具有放置装有基板的容器的端口以及指引机器手；

工序处理部，其具有显影处理部，所述显影处理部中以相互分层地方式配置有对基板进行显影工序的第1显影处理室和第2显影处理室；以及

第1路径部，其配置于所述显影处理部与所述指引部之间，

其中，所述第1显影处理室包括：显影模块；第1加热模块；以及第1主搬运机器手，其配置于能靠近所述显影模块和所述第1加热模块的移动通路上，

所述第1路径部包括：第2加热模块；第1缓冲模块；冷却模块；第2缓冲模块；以及第1缓冲搬运机器手，其配置于能靠近所述第2加热模块、所述第1缓冲模块、所述冷却模块以及所述第2缓冲模块的移动通路上。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，

所述第1缓冲模块和所述冷却模块配置在所述第1主搬运机器手和所述第1缓冲搬运机器手都能靠近的位置。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理设备，其中，

所述第1缓冲模块和所述冷却模块层叠配置在所述第1主搬运机器手的移动通路与所述第1缓冲搬运机器手的移动通路之间。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理设备，其中，

所述第1主搬运机器手的移动通路沿水平方向提供，所述第1缓冲搬运机器手的移动通路沿垂直方向提供。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理设备，其中，

所述第1加热模块是曝光后烘烤模块。

6.根据权利要求1或2所述的基板处理设备，其中，

所述第2加热模块是硬性烘烤模块。

7.根据权利要求1或2所述的基板处理设备，其中，

所述第1显影处理室的显影模块仅为执行正型显影的正型显影模块和执行负型显影的负型显影模块中的任意一种，

所述第2显影处理室的显影模块仅为执行正型显影的正型显影模块和执行负型显影的负型显影模块中的另一种。

8.根据权利要求1或2所述的基板处理设备，其中，

所述第1显影处理室的个数比所述第2显影处理室的个数少。

9.根据权利要求1或2所述的基板处理设备，其中，

所述工序处理部还包括：涂敷处理部，其以分层地方式配置有对基板执行光刻胶涂敷工序的涂敷处理室，

其中，所述涂敷处理部与所述显影处理部分层配置。

10.一种基板处理设备，包括：

指引部；

显影处理部，其以层叠的方式配置有进行正型显影工序的第1显影处理室和进行负型显影工序的第2显影处理室；以及

第1路径部，其配置于所述显影处理部与所述指引部之间，

其中，在所述第1显影处理室和第2显影处理室中的任意一个处理室中，为了依次执行曝光后烘烤、冷却以及显影工序，在第1主搬运机器手的传送通路上配置有显影模块、曝光后烘烤模块、冷却模块，

在所述第1路径部中，用于对在所述显影模块中进行处理的基板执行硬性烘烤工序的硬性烘烤模块配置于第1缓冲搬运机器手的传送通路上。

11.根据权利要求10所述的基板处理设备，其中，

所述冷却模块配置在所述第1主搬运机器手和所述第1缓冲搬运机器手都能靠近的位置，

在所述冷却模块中层叠地配置有基板临时停留的第1缓冲模块。

12.根据权利要求11所述的基板处理设备，其中，

所述第1路径部还包括：第2缓冲模块，其用于与所述指引部进行基板交接。

13.根据权利要求11所述的基板处理设备，其中，

所述第1主搬运机器手的移动通路沿水平方向提供，所述第1缓冲搬运机器手的移动通路沿垂直方向提供。

14.根据权利要求11所述的基板处理设备，其中，

所述任意一个处理室数量比另一个处理室数量少。