[发明专利]一种太阳电池光诱导电镀方法

权利要求书

1.一种太阳电池光诱导电镀方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）采用单晶硅对其表面碱腐蚀，制绒同时去掉表面损伤层，再进行磷扩散；

（2）扩散后，采用湿化学法去除硅片表面的磷硅玻璃，然后采用PECVD技术在正面镀氮化硅减反射膜；

（3）再在非镀膜面采用丝网印刷技术印刷背电极和背电场，然后在镀膜面印刷银浆种子层，进行烧结；

（4）最后采用LIP技术在种子层上制备电池电极。

2.如权利要求1所述的一种太阳电池光诱导电镀方法，其特征在于所述步骤（1）中采用单晶硅片的规格为156mm×l56mm的P型，电阻率为l～3Ω·cm，厚约200±20μm。

3.如权利要求1所述的一种太阳电池光诱导电镀方法，其特征在于所述步骤（3）中采用的印刷丝网版参数为90线，设计线宽45μm，网版膜厚16μm，3条主电极，主电极宽1.5mm。

4.如权利要求1所述的一种太阳电池光诱导电镀方法，其特征在于所述步骤（2）中减反射膜为硅片p-n结面镀80am厚的减反射膜。

5.如权利要求1所述的一种太阳电池光诱导电镀方法，其特征在于所述步骤（3）中种子层银浆湿重使用量为0.06g。