[发明专利]一种力学试验机的同轴对中调节平台有效
申请号: | 201410603803.6 | 申请日: | 2014-10-30 |
公开(公告)号: | CN104316395A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 陈刚;梁昊穹;鲁灵涛;王磊;陈旭 | 申请(专利权)人: | 凯尔测控试验系统(天津)有限公司 |
主分类号: | G01N3/02 | 分类号: | G01N3/02 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 杜文茹 |
地址: | 300100 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 力学 试验 同轴 调节 平台 | ||
技术领域
本发明涉及一种力学试验机的对中调节装置。特别是涉及一种力学试验机的同轴对中调节平台。
背景技术
按照美国ASTM E1012标准规定,对材料进行拉伸、疲劳等力学性能测试时,必须保证试验机达到该标准规定的同轴度。试验机的不同轴对实验结果的准确性影响极大,而且会给试样带来附加的弯曲或剪切应力,导致试样提前破坏,或产生不合理的破坏模式,还会直接影响到实验结果的准确性。ASTM E8-9标准的示例中指出,对于一个标准的直径为12.5mm的试样,每偏心0.025mm,应力就增加1.5%;对于直径为9mm的试样,应力增加2.5%;对于直径为6mm的试样,应力增加3.2%,
因此,同轴度成为试验机出厂测试的一个重要指标。但是由于加工精度、安装误差,运输冲击和机器老化等因素,使得试验机很难一直保持较好的同轴度,需要设计出同轴对中调节平台装置,消除试验机的对中偏差。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种承载能力高,无机械回隙的力学试验机的同轴对中调节平台,可广泛应用于不同载荷范围的试验机中,消除上下夹具之间的对中偏差。
本发明所采用的技术方案是:一种力学试验机的同轴对中调节平台,包括有下滑台,分别位于下滑台左右两侧用于调整下滑台X方向位移的左压块和右压块,分别设置在下滑台上面的上滑台和位于上滑台前后两侧的用于调整上滑台Y方向位移的前压块和后压块,所述的前压块和后压块与所述的左压块和右压块为垂直设置。
所述的下滑台为矩形结构,在下滑台内平行的设置有两条前后贯通的用于安装光轴的下光轴孔,在下滑台的与所述的两个下光轴孔平行相邻的两个侧面上分别开有与所述的下光轴孔相连通的用于锁紧下光轴孔的下光轴锁紧缝,在下滑台的四端对应所述的下光轴锁紧缝各开有一个与下光轴锁紧缝相垂直的下光轴锁紧孔,在下滑台的上端面上还分别开有与所述的前压块和后压块相对应的用于固定前压块和后压块的压块固定孔,所述下滑台的远离下光轴锁紧缝的一个或两个侧面上开有X轴调节螺孔。
所述的上滑台为矩形结构,在上滑台内平行的设置有两条前后贯通的用于安装光轴的上光轴孔,所述的上光轴孔与下滑台中的下光轴孔相垂直,在上滑台的与所述的两个上光轴孔平行相邻的两个侧面上分别开有与所述的上光轴孔相连通的用于锁紧上光轴孔的上光轴锁紧缝,在上滑台的四端对应所述的上光轴锁紧缝各开有一个与上光轴锁紧缝相垂直的上光轴锁紧孔,在上滑台的上端面上还开有用于固定传感器的传感器固定孔,所述上滑台的远离上光轴锁紧缝的一个或两个侧面上开有Y轴调节螺孔。
所述的左压块、右压块、前压块和后压块结构完全相同,均为长方形结构的主体,在所述的长方形结构的主体上分别形成有与下滑台中的两条下光轴孔或与上滑台中的两条上光轴孔相连通的能够插入光轴端部的两个侧端光轴孔,和与所述的侧端光轴孔相连通的用于锁紧侧端光轴孔的侧端光轴孔锁紧缝,以及与下滑台中的X轴调节螺孔或与上滑台中的Y轴调节螺孔相连通的贯通孔,所述的主体上还形成有用于与实验平台进行固定的固定孔。
所述的贯通孔包括有邻近所述的X轴调节螺孔或Y轴调节螺孔的能够插入调节螺丝的调节孔和与所述的调节孔一体形成的远离X轴调节螺孔或Y轴调节螺孔的用于安装深沟球轴承的轴承安装孔,所述调节孔的直径与所述的X轴调节螺孔或Y轴调节螺孔的直径相同,所述轴承安装孔的直径大于X轴调节螺孔或Y轴调节螺孔的直径,所述轴承安装孔的外侧设置有用于定位深沟球轴承端盖,所述的端盖上开有与所述的轴承安装孔和调节孔相连通的通孔。
本发明的一种力学试验机的同轴对中调节平台,承载能力高,无机械回隙,配合应变规的使用,能够彻底消除试验机的对中偏差,提高试验精度。本发明可广泛应用于不同载荷范围的试验机中,消除上下夹具之间的对中偏差。本发明有益成果是:
1)本发明采用双层耦合结构,实现X、Y方向的独立对中调节,降低对中调节的难度。
2)用光轴代替常见的导轨结构,结构简单,完全消除对中调节平台的回隙,满足试验机的要求。
3)巧妙的螺栓调节装置,提高了调节精度,降低调节难度。
4)本对中调节平台可以消除试验机上下夹具间任意方向上10mm内的对中偏差,在微调过程中,任一方向的对中偏差可分解为X、Y方向上的两个分量进行分别调节。
5)本对中调节平台的滑台具有开缝抱紧结构,在完成对中微调后,可利用锁紧螺栓使滑台与光轴抱紧,消除回隙。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图;
图2是本发明中下滑台的结构示意图;
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