[发明专利]一种中性透过色的单银LOW-E玻璃

说明书

技术领域：

本发明涉及一种中性透过色的单银LOW-E玻璃。

背景技术：

LOW-E玻璃，是一种高端的低辐射玻璃，是在玻璃基材表面镀制包括银层在内的多层金属及其它化合物组成的膜系产品。

随着现代建筑的发展，人们审美观念的提高，对幕墙玻璃的外观色调与整体的建筑的协调性越来越受到人们的关注。而在众多颜色中，中性色越来越受到人们的喜欢。许多大型的工程建筑不约而同的都采用了中性色。传统的单银LOW-E玻璃,由于功能层均采用Ag层，透过色偏绿。

故有必要对现有的单银LOW-E玻璃作出改进，以提供一种透过色呈中性的单银LOW-E玻璃。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种中性透过色的单银LOW-E玻璃，其透过色更中性。

一种中性透过色的单银LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次设有SnO₂底层介质层、AZO平整层、Cu层、Ag层、CrN_xO_y膜层、以及SnO₂顶层介质层。

本发明可通过如下方案进行改进：

所述SnO₂底层介质层的厚度为30nm。

所述AZO平整层的厚度为10nm。

所述Cu层的厚度为3～5nm。

所述Ag层的厚度为8～10nm。

所述CrN_xO_y膜层的厚度为3nm。

所述SnO₂顶层介质层的厚度为60nm。

本发明具有如下优点：1、本发明创造性地在Ag层前面，增加一层Cu层，从而在保证辐射率不变的情况下，使本发明的透过色更中性。2、具有比传统单银LOW-E玻璃更低的辐射率。

附图说明：

图1为本发明结构剖视图。

具体实施方式：

如图所示，一种中性透过色的单银LOW-E玻璃，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1的上表面由下而上依次设有SnO₂底层介质层2、AZO平整层3、Cu层4、Ag层5、CrN_xO_y膜层6、以及SnO₂顶层介质层7。

进一步地，所述SnO₂底层介质层2的厚度为30nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、以氩气为溅射气体、氧气作反应气体溅射Sn靶，其中，氩氧比为(400SCCM～420SCCM)：(450SCCM～500SCCM)，最终在玻璃基材上形成SnO₂底层介质层，氩氧比是该膜层的核心，决定了成膜的质量。

再进一步地，所述AZO平整层3的厚度为10nm，用于平滑Cu层。其采用磁控溅射镀膜工艺，用中频交流电源溅射陶瓷Zn(AZO)靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量氧气,其中，氩氧比为：(400SCCM～420SCCM):(20～40SCCM),最终形成AZO平整层，为Cu层、Ag层作铺垫，降低辐射率。

更进一步地，所述Cu层4的厚度为3～5nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铜靶，用氩气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，最终形成Cu层，用以提供中性的透过色。

又进一步地，所述Ag层5的厚度为8～10nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射银靶，用氩气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，最终形成Ag层。

再进一步地，所述CrN_xO_y膜层6的厚度为3nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气做反应气体，渗少量氧气，最终形成CrN_xO_y膜层，提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

更进一步地，所述SnO₂顶层介质层7的厚度为60nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、用氩气作为溅射气体、氧气作反应气体溅射锡靶，其中，氩氧比为(400SCCM～420SCCM)：(450SCCM～500SCCM)，最终形成SnO₂顶层介质层，氩氧比是该膜层的核心，决定了成膜的质量。

本发明创造性地在Ag层前面，增加一层Cu层，从而在保证辐射率不变的情况下，使本发明的透过色更中性。另外，本发明具有比传统单银LOW-E玻璃更低的辐射率。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明专利范围所做的同等变化与修饰，皆落入本发明专利涵盖的范围。