[发明专利]一种石墨烯的化学图形化方法在审

专利信息
申请号: 201410607577.9 申请日: 2014-11-03
公开(公告)号: CN104317162A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 潘洪亮;崔华亭;史浩飞;余崇圣;钟达 申请(专利权)人: 重庆墨希科技有限公司;中国科学院重庆绿色智能技术研究院
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 朱振德
地址: 401329 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 化学 图形 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:包括以下步骤:

1)在石墨烯表面涂抹光阻材料;

2)将步骤1)得到的光阻材料-石墨烯复合材料曝光显影,得到需要的图形;

3)将步骤2)得到的曝光显影后的光阻材料-石墨烯复合材料送入反应装置,将显影暴露的石墨烯转变为石墨烷;

4)去除步骤3)得到的复合材料上的光阻材料,得到图形化的石墨烯。

2.根据权利要求1所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,石墨烯为生长基体上生长后转移到目标基体上的石墨烯。

3.根据权利要求2所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,生长基体为铜、镍、铁或铝。

4.根据权利要求2所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,目标基体为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、石英、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯。

5.根据权利要求1所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,光阻材料为正胶、负胶或反转胶。

6.根据权利要求1所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤3)中,将显影暴露的石墨烯转变为石墨烷的具体方法为:将材料放入高能反应腔中,用氩气冲洗反应腔,将反应腔中的空气排出,再在反应腔中注入氢气和氩气的混合气体,打开反应腔,反应30分~4小时直至达到饱和状态,取出即可。

7.根据权利要求6所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤3)中,高能反应腔为等离子体或紫外线反应腔。

8.根据权利要求6所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤3)中,氢气和氩气的混合气体中氢气的体积比为5%~20%。

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