[发明专利]一种石墨烯的化学图形化方法在审
申请号: | 201410607577.9 | 申请日: | 2014-11-03 |
公开(公告)号: | CN104317162A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 潘洪亮;崔华亭;史浩飞;余崇圣;钟达 | 申请(专利权)人: | 重庆墨希科技有限公司;中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 朱振德 |
地址: | 401329 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 化学 图形 方法 | ||
1.一种石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)在石墨烯表面涂抹光阻材料;
2)将步骤1)得到的光阻材料-石墨烯复合材料曝光显影,得到需要的图形;
3)将步骤2)得到的曝光显影后的光阻材料-石墨烯复合材料送入反应装置,将显影暴露的石墨烯转变为石墨烷;
4)去除步骤3)得到的复合材料上的光阻材料,得到图形化的石墨烯。
2.根据权利要求1所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,石墨烯为生长基体上生长后转移到目标基体上的石墨烯。
3.根据权利要求2所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,生长基体为铜、镍、铁或铝。
4.根据权利要求2所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,目标基体为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、石英、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯。
5.根据权利要求1所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤1)中,光阻材料为正胶、负胶或反转胶。
6.根据权利要求1所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤3)中,将显影暴露的石墨烯转变为石墨烷的具体方法为:将材料放入高能反应腔中,用氩气冲洗反应腔,将反应腔中的空气排出,再在反应腔中注入氢气和氩气的混合气体,打开反应腔,反应30分~4小时直至达到饱和状态,取出即可。
7.根据权利要求6所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤3)中,高能反应腔为等离子体或紫外线反应腔。
8.根据权利要求6所述的石墨烯的化学图形化方法,其特征在于:所述步骤3)中,氢气和氩气的混合气体中氢气的体积比为5%~20%。
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