[发明专利]一种利用反演数据体的储层顶面识别方法及装置在审
申请号: | 201410610680.9 | 申请日: | 2014-11-03 |
公开(公告)号: | CN104375177A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 孟祥霞;王宏斌 | 申请(专利权)人: | 中国石油天然气股份有限公司 |
主分类号: | G01V1/28 | 分类号: | G01V1/28 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李秀芸 |
地址: | 100007 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 反演 数据 储层顶面 识别 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及地球物理勘探技术领域,特别涉及一种利用反演数据体的储层顶面识别方法及装置。
背景技术
目前对储层顶面的识别和储层边界的识别主要依靠手工解释。用手工解释的方法存在两个方面的缺点:一方面,手工解释速度慢,比较耗费时间,第二方面,利用手工解释很难精确地识别储层边界,导致储层边界识别不准。
发明内容
为解决现有技术的问题,本发明提出一种针对反演数据体的储层顶底识别方法及装置,以反演数据体为基础,识别岩性圈闭的储层顶面以及确定储层边界。提高用反演数据体进行储层边界识别和储层顶面识别的精度和速度。
为实现上述目的,本发明提供了一种利用反演数据体的储层顶面识别方法,包括:
选择第一层位和第二层位;其中,所述第一层位和所述第二层位之间包含了储层发育段,所述第一层位、第二层位和储层发育段构成目标地层;
确定所述储层发育段的阈值;
按照所述目标地层从浅到深的方向将所述反演数据点的数据值与所述阈值比较;如果所述数据值在所述阈值范围内,则所述反演数据点对应的时间/深度为目标地层的储层顶面的时间/深度;否则,所述第二层位为目标地层的储层顶面的时间/深度;
对获得的目标地层的储层顶面的时间/深度成图,获得目标地层的储层顶面。
优选地,还包括:
在成图的目标地层的储层顶面中,与所述第二层位的位置不相等的层位构成实际储层顶面,与所述第二层位的位置相等的层位区域为非储层的范围。
优选地,所述阈值通过反演中运用的基础测井曲线确定。
优选地,所述第一层位位于所述储层发育段顶面的隔层的中心位置;所述第二层位位于所述储层发育段顶面的隔层的中心位置。
为实现上述目的,本发明还提供了一种利用反演数据体的储层顶面识别装置,包括:
目标地层获取单元,用于选择第一层位和第二层位;其中,所述第一层位和所述第二层位之间包含了储层发育段,所述第一层位、第二层位和储层发育段构成目标地层;
阈值确定单元,用于确定所述储层发育段的阈值;
比较单元,用于按照所述目标地层从浅到深的方向将所述反演数据点的数据值与所述阈值比较;如果所述数据值在所述阈值范围内,则所述反演数据点对应的时间/深度为目标地层的储层顶面的时间/深度;否则,所述第二层位为目标地层的储层顶面的时间/深度;
第一识别单元,用于对获得的目标地层的储层顶面的时间/深度成图,获得目标地层的储层顶面。
优选地,还包括:
第二识别单元,用于在所述成图的目标地层的储层顶面中,与所述第二层位的位置不相等的层位构成实际储层顶面,与所述第二层位的位置相等的层位区域为非储层范围。
优选地,所述阈值确定单元通过反演中运用的基础测井曲线确定阈值。
优选地,所述目标地层获取单元选定的第一层位位于所述储层发育段顶面的隔层的中心位置;所述目标地层获取单元选定的第二层位位于所述储层发育段顶面的隔层的中心位置。
上述技术方案具有如下有益效果:本技术方案通过确定储层阈值,以阈值为标准确定储层顶面和储层的边界,并提升了岩性圈闭边界识别和储层顶面识别的精度和速度,使得准确性提高,工作量减小。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提出一种利用反演数据体的储层顶面识别方法流程图之一;
图2为本发明提出一种利用反演数据体的储层顶面识别方法流程图之二;
图3为本发明提出一种利用反演数据体的储层顶面识别装置框图之一;
图4为本发明提出一种利用反演数据体的储层顶面识别装置框图之二;
图5为本实施例的利用反演数据在RP3井区识别储层顶面的过程示意图;
图6为本实施例的采用本技术方案识别的RP3井区的储层顶面立体显示图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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