[发明专利]一种发光二极管外延结构在审
申请号: | 201410612381.9 | 申请日: | 2014-11-04 |
公开(公告)号: | CN104332538A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 李鸿建;沈鑫;靳彩霞;董志江 | 申请(专利权)人: | 迪源光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/14 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 张瑾 |
地址: | 430074 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 外延 结构 | ||
1.一种发光二极管外延结构,其特征在于,所述外延结构包括依次排列的衬底(1)、过渡层(2)、u型氮化镓层(3)、n型氮化镓层(4)、量子阱层(5)和p型氮化镓层(6);
所述n型氮化镓层(4)的电子浓度渐变,远离所述量子阱层(5)侧电子浓度高于靠近所述量子阱层(5)侧电子浓度。
2.如权利要求1所述的外延结构,其特征在于,所述n型氮化镓层(4)与N型电极(8)的接触面为斜面,所述斜面下方同一水平面上靠近P型电极(7)的一端电子浓度低于远离P型电极(7)的一端。
3.如权利要求1所述的外延结构,其特征在于,所述n型氮化镓层(4)与N型电极(8)的接触面为斜面,所述斜面靠近P型电极(7)的一端高于远离P型电极(7)的一端。
4.如权利要求1-3任一项所述的外延结构,其特征在于,所述n型氮化镓层(4)包括Ga1-x-yN半导体层和掺杂元素Si,所述x和y为随机常数,范围是0≤x≤1,0≤y≤1,0≤x+y<1;
所述掺杂元素Si的浓度范围是1×1017/cm3~9×1022/cm3,厚度为0.01~100um。
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