[发明专利]面板结构、面板单元及其制作方法

权利要求书

1.一种面板结构，其特征在于：其至少包括，

一基板，其至少具有一第一表面和一第一侧面，所述第一表面至少具有一 第一区域和第二区域，所述第一区域邻接于所述第二区域，且位于所述第一侧 面与第二区域之间；

一遮挡层图案，其位于所述第一表面上，且其在所述第一表面上的投影覆 盖所述第一区域和第二区域，所述遮挡层图案至少经一第一掩膜制作而成；

一预切割线，所述预切割线位于所述第一区域，所述面板结构用于根据所 述预切割线形成不同尺寸的面板单元。

2.如权利要求1所述的面板结构，其特征在于：所述面板结构还包括形 成于所述第一表面上的电极引线，所述电极引线在所述第一表面上的投影至少 落于所述第二区域，且不落入所述第一区域。

3.如权利要求2所述的面板结构，其特征在于：所述第一表面还包括邻 接于所述第二区域的一第三区域，所述第二区域位于所述第一区域和第三区域 之间，所述第二区域环绕所述第三区域，所述第一区域环绕所述第二区域，所 述面板结构还包括一功能层，所述功能层形成于所述第三区域所在的第一表面 上，且与所述电极引线电性连接。

4.如权利要求3所述的面板结构，其特征在于：所述功能层为触控感应 层，所述第一区域的跨度大于所述第二区域的跨度，所述第三区域的跨度远大 于所述第一区域、第二区域的跨度。

5.一种面板结构制作方法，其至少包括以下步骤：

提供至少具有一第一表面和第一侧面的一基板，所述第一表面至少具有一 第一区域和第二区域，所述第一区域邻接于所述第二区域，且位于所述第一侧 面与第二区域之间；

在所述第一表面上形成一遮挡层图案，所述遮挡层图案在所述第一表面上 的投影覆盖所述第一区域和第二区域，所述遮挡层图案至少经一第一掩膜制作 而成；

在所述第一表面上形成至少一预切割线，所述预切割线位于所述第一区 域。

6.如权利要求5所述的面板结构制作方法，其特征在于：所述制作方法 还包括根据所述预切割线将所述面板结构形成不同尺寸的面板单元的步骤。

7.如权利要求6所述的面板结构制作方法，其特征在于：所述第一表面 还包括邻接于所述第二区域的一第三区域，所述第二区域位于所述第一区域和 第三区域之间，所述第二区域环绕所述第三区域，所述第一区域环绕所述第二 区域，所述面板结构还包括一功能层，所述功能层形成于所述第三区域所在的 第一表面上，且与所述电极引线电性连接，所述第一区域的跨度大于所述第二 区域的跨度。

8.一种面板单元制作方法，其至少包括以下步骤：

提供一面板结构，所述面板结构由如权利要求5-7任一项所述面板结构制 作方法制作而成；

预设所述面板单元的尺寸，根据所述尺寸在所述面板结构的第一区域形成 一预切割线；

按照所述预切割线切割所述面板结构，形成所述面板单元。

9.如权利要求8所述的面板单元制作方法，其特征在于：所述制作方法 还包括在所述第一表面上形成电极引线的步骤，所述电极引线在所述第一表面 上的投影至少落于所述第二区域。

10.一种面板单元，其特征在于：所述面板单元至少根据权利要求8-9任 一项所述的面板结构切割而成。