[发明专利]灌注控制方法及灌注控制装置

权利要求书

1.一种灌注控制方法，包括：

信号采集步骤，采集环境压力，以得到压力测量值；

信号处理步骤，接收所述压力测量值，并根据所述压力测量值得到灌注参数；以及

信号输出步骤，接收并输出所述灌注参数；

其中，在所述信号处理步骤中，基于控制规则表根据压力测量值与压力理想值之间的关系来调取所需的控制参数，通过调取一个或多个控制参数以实现PID控制的各种控制策略，并根据所述压力测量值和所述控制参数得到所述灌注参数；

所述灌注参数为灌注速度；

在所述信号处理步骤中，对所述压力测量值与压力理想值进行比较，根据压力测量值与压力理想值的差异来动态调整所述控制参数；

在所述信号处理步骤中，当所述差异大于第一范围值时，采用比例控制策略以得到灌注参数；

在所述信号处理步骤中，当所述差异小于第一范围值且大于第二范围时，采用比例微分控制策略以得到灌注参数；

所述信号处理步骤中，当所述差异小于第二范围值时，采用比例积分控制策略或比例积分微分控制策略以得到灌注参数，所述第二范围值小于所述第一范围值；

所述控制规则表中的控制参数是可变的；

依据控制系统的实际运行状态或者动态特性来动态调整所述控制规则表中的控制参数。

2.一种采用权利要求1所述的灌注控制方法的灌注控制装置，包括：

采集单元，所述采集单元用于采集环境压力，以得到压力测量值；

处理单元，所述处理单元接收来自所述采集单元的压力测量值，并根据所述压力测量值得到灌注参数；

控制规则表，在所述控制规则表中存储有多个控制参数；以及

输出单元，所述输出单元接收并输出来自所述处理单元的灌注参数；

其中，所述处理单元基于控制规则表根据压力测量值与压力理想值之间的关系来调取所需的控制参数，通过调取一个或多个控制参数以实现PID控制的各种控制策略，并根据所述压力测量值和所述控制参数得到所述灌注参数。

3.根据权利要求2所述的灌注控制装置，其特征在于，所述处理单元包括：

比较器，所述比较器接收来自所述采集单元的压力测量值，并比较压力测量值与压力理想值的差异；

运算器，所述运算器根据所述差异从控制规则表中调取控制参数，并根据所述差异和所述控制参数得到所述灌注参数。