[发明专利]一种石墨烯双结太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201410624955.4 | 申请日: | 2014-11-07 |
公开(公告)号: | CN104332522A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 况亚伟;刘玉申;马玉龙;徐竞;沈小鹏;冯金福 | 申请(专利权)人: | 常熟理工学院;江苏俊知技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/0725 | 分类号: | H01L31/0725;H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 张俊范 |
地址: | 215500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 烯双结 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种太阳能电池及其制造方法,特别是涉及一种石墨烯双结太阳能电池及其制备方法,属于新能源技术领域。
背景技术
能源与环境问题一直是影响人类生存和发展的热点问题。太阳能作为一种取之不尽、用之不竭的可再生能源,其开发利用受到了最广泛的关注。至19世纪中期科学家制备出第一块太阳能电池以来,太阳能电池受到了各国的密切关注。制备成本低廉、环保高效的太阳能电池成为各国研发人员所追求的目标。
太阳能电池是利用半导体材料的光生伏特效应将光能转换为电能的一种器件。按照结构来分可以分为由同质材料构成一个或多个PN结的同质结太阳能电池;由异质材料构成一个或多个PN结的异质结太阳能电池;由金属和半导体接触构成的肖特基结太阳能电池;由电解质中半导体电极构成的光电化学太阳能电池。近年来发展最为成熟的硅基半导体PN结太阳能电池面临高能耗、高成本、高污染等几大问题,由石墨烯薄膜与单晶硅结合构成的石墨烯硅基肖特基结太阳能电池以其制备成本低廉、工艺环保等优势引起了各国学者的广泛关注。
石墨烯是一种典型的半金属,功函数约为4.8ev,当石墨烯与功函数低于该值的半导体结合时,即可形成肖特基结,并进一步组装成太阳能电池,得到1.0%~2.0%的转换效率(Xinming Li,Hongwei Zhu,et al.Adv.Mater.2010,22,2743-2748);Fan等将N型单晶硅通过银辅助刻蚀形成硅纳米线阵列后与石墨烯薄膜组装成肖特基结电池,利用纳米线阵列的陷光作用使电池的发光效率提高到2.86%(Guifeng Fan,Hongwei Zhu,Jinquan Wei,Ning Guo,et al.ACS Appl.Mater.Interfaces 2011,3,721-725);马锡英发明一种石墨烯/SiPN双结太阳能电池(CN 103137770 A),光电转化效率达到2.26%。
与传统p-n或p-i-n结构的硅基太阳能电池相比,石墨烯硅基异质结电池结构简单,有效的降低了太阳能电池的成本。双结石墨烯太阳能电池在单结石墨烯太阳能电池的基础上改进了长波波长光子的利用效率。但是,现有直接连接的双结石墨烯电池由于肖特基结内建电场和PN结内建电场方向相反,降低了电池的开路电压和短路电流,影响了电池光电转换效率的提高。
发明内容
针对上述现有技术的不足,本发明的目的是提供一种石墨烯双结太阳能电池结构,来解决双结石墨烯太阳能电池肖特基结内建电场和PN结内建电场反向的问题。本发明的另一个目的是提供这种石墨烯双结太阳能电池的制备方法。
本发明的技术方案是这样的:一种石墨烯双结太阳能电池,包括一个由单晶硅表面与石墨烯薄膜构成的肖特基结和一个由低掺杂多晶硅薄膜构成的PN结,所述PN结由N型多晶硅薄膜和P型多晶硅薄膜构成,肖特基结与PN结之间由高掺杂多晶硅薄膜构成的隧道结连接。
优选的,所述高掺杂多晶硅薄膜掺杂浓度大于或等于1019/cm3,厚度为50~500nm。
优选的,所述单晶硅片上设置二氧化硅层,所述二氧化硅层是具有通孔的环状结构,所述二氧化硅层的表面和由二氧化硅层通孔暴露的单晶硅片表面设置石墨烯薄膜,石墨烯薄膜一端引出导线,所述PN结下表面制备导电薄膜一端引出导线。
优选的,所述单晶硅是本征晶体、N型掺杂或P型掺杂,厚度为2~5000微米。
优选的,所述石墨烯薄膜的厚度为1~100纳米。
优选的,所述二氧化硅层的厚度为10~2000纳米。
优选的,所述导电薄膜材质为Cu、Ag、Al、ZnO和ITO中的一种。
优选的,所述N型多晶硅薄膜和P型多晶硅薄膜厚度为2~500微米,掺杂浓度为1014/cm3~1016/cm3。
一种石墨烯双结太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:包括以下步骤:a、在单晶硅一侧采用等离子化学沉积法依次沉积高掺杂多晶硅薄膜、两层低掺杂多晶硅薄膜;b、在单晶硅另一侧表面制备二氧化硅层;c、在二氧化硅层的表面和由二氧化硅层通孔暴露的单晶硅表面上制备石墨烯薄膜;d、石墨烯薄膜一端引出导线作为电池的正极;e、在两层低掺杂多晶硅薄膜形成的PN结下表面采用丝网印刷或溅射工艺制备导电薄膜一端引出导线作为电池的负极。
优选的,采用直接转移、甩膜、喷涂、浸沾、过滤或石墨烯有机悬浮液平铺方式制备石墨烯薄膜,干燥后石墨烯薄膜与单晶硅表面紧密贴合。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的