[发明专利]基板校准方法与装置

说明书

本发明的基板校准装置用于校准薄膜沉积进出片腔中的基板，所述进出片腔具有顶部、底部、顶部与底部之间的侧壁及位于底部正上方用以承载基板的升降装置，所述底部正下方设置有用以升降所述升降装置的动力装置，所述顶部设置有基板校准装置，所述基板校准装置包括驱动机构、传动机构、导向杆，所述驱动机构驱动传动机构运动，所述导向杆临近所述传动机构的一端设置有滚轮装置，所述导向杆远离所述传动机构的一端设置有校准机构，所述滚轮装置随着所述传动机构的运动而运动，进而带动所述校准机构随着所述传动机构的运动而在导向杆上移动。本发明的基板校准机构可移动的对失准基板不同的方向同时驱使基板至预定基准位置，压力小，基板不易损坏。

技术领域

本发明涉及真空薄膜沉积设备领域，尤其涉及一种基板校准方法及装置。

背景技术

在真空薄膜沉积设备系统中，大气机械手臂将镀膜基板从大气侧送入进出片腔，需进行基板位置校准，例如，公开号为1639839的中国专利公开一种用以支撑一基材的方法和设备。在一种情况下，一种用以支撑一基材的设备包括一支撑板，具有一第一主体安排成接近该支撑板。一第一推挤件径向地连接至第一主体并用来当第一主体旋转时，在平行于该支撑板的第一方向挤压基材。在另一种情况下，一具有一基材支撑件的真空隔绝室包含有一冷却板，其被移动以作动至少一个对准机构，该基材支撑件支撑放在其上面的基材。对准机构包含一推挤件，该推挤件将基材在第一方向朝该支撑件的中心推挤。推挤件可以另外旋转于垂直于第一方向的轴上。

但是，该专利在对基板校准的过程中，对准机构是固定不动的，会对正常传送的基板造成阻挡，对准机构持续的挤压基板易导致基板的损坏。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板校准方法与装置，以解决现有技术基板校准过程中基板易损坏的问题。

为实现前述目的，本发明采用如下技术方案：一种基板校准装置，用于校准薄膜沉积进出片腔中的基板，所述进出片腔具有顶部、底部、顶部与底部之间的侧壁及位于底部正上方用以承载基板的升降装置，所述底部正下方设置有用以升降所述升降装置的动力装置，所述顶部设置有基板校准装置，所述基板校准装置包括驱动机构、传动机构、导向杆，所述驱动机构驱动传动机构运动，所述基板校准装置以传动机构为中心向外设有导向杆与之相连，所述导向杆方向与所述基板正确位置时的对角线方向或直角边的中心线方向重合，所述导向杆临近所述传动机构的一端设置有滚轮装置，所述导向杆远离所述传动机构的一端设置有校准机构，所述滚轮装置随着所述传动机构的运动而运动，进而带动所述校准机构随着所述传动机构的运动而在导向杆上移动。

优选的，所述传动机构是凸轮或槽轮，所述驱动机构驱动传动机构旋转。

优选的，当所述传动机构是凸轮的时候，所述导向杆上还设有位于所述校准机构外侧的弹性压紧机构，所述弹性压紧机构用以压紧所述校准机构，使所述滚轮装置与所述凸轮始终接触。

优选的，所述凸轮边缘包括凸部及平滑部，相邻的所述凸部之间通过所述平滑部相连接，所述滚轮装置随着所述凸轮的旋转而沿着凸轮边缘运动。

优选的，所述基板校准装置在所述导向杆上设有远端位置和校准位置。当所述校准机构位于远端位置时，所述升降装置将所述基板升至设定的高度进行校准，此时，所述导向杆上的滚轮装置与所述凸轮的凸部接触。

优选的，当校准机构位于校准位置时，所述导向杆上的滚轮装置与所述凸轮的平滑部接触。

优选的，所述槽轮设有互不连通的条形孔，所述条形孔自槽轮的中心斜向外延伸，所述条形孔设置有延伸部和平滑部，所述滚轮装置随着所述槽轮的旋转而沿着条形孔运动。

优选的，所述基板校准装置在所述导向杆上设有远端位置和校准位置。当所述校准机构位于远端位置时，所述升降装置将所述基板升至设定的高度进行校准，此时，所述导向杆上的滚轮装置与所述条形孔的延伸部接触。