[发明专利]一种脱除高浓度含镍电镀废水的处理方法

权利要求书

1.一种高浓度含镍电镀废水的处理方法，其特征在于，主要包括以下步骤：

(1)将废水导入预处理池，加入稀释液稀释废水，混合搅拌使溶液完全混合，调节混合废水的pH值，经预沉淀后，上清液进入第一段的混合反应池；

(2)将预处理过的废水导入第一段的混合反应池中，投加吸附剂改性硅酸钙进行吸附反应，随后进入到絮凝沉降池进行固液分离；

(3)第一段的固液分离的上清液进入到第二段的混合反应池中，投加吸附剂改性硅酸钙进行吸附反应，随后进入到絮凝沉降池进行固液分离；上清液为出水。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述稀释液为渡槽清洗液或污水处理车间清洗液，稀释废水倍数为1-100倍。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用氢氧化钙或氢氧化钠溶液调节pH。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，调节混合废水pH值为6-10。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述吸附剂改性硅酸钙，粒径小于1μm；含有钙来源物质30％-60％、硅来源物质30％-60％、分散剂0.3％-6％、水0％-30％，粒径为1μm以下；其中，钙来源物质为硝酸钙、氢氧化钙或氯化钙，硅来源物质为硅酸钠、硅酸钾、正硅酸四乙酯或正硅酸盐，分散剂为无水乙醇、聚乙二醇、乙二醇或丙三醇，分散剂的添加剂量是钙源物质质量的1％-10％，钙:硅摩尔比为0.5-2:1。

6.根据权利要求1或5所述的方法，其特征在于，所述吸附剂制备方法包括以下步骤：(1)向钙源、硅源溶解池中添加等体积的水；(2)向钙源溶解池中添加钙源物质和分散剂，使得钙源物质终浓度在1mol/L以内，分散剂质量为钙源物质质量的1％-10％；(3)向硅源溶解池中加硅源物质，使两溶解池中钙硅摩尔比为0.5-2:1；(4)待两溶解池中的物质完全溶解后，将两溶解池中的溶液以相同速度进入到混合反应池中进行混合反应，混合反应温度为30-60℃，搅拌速度为100-250r/min，反应时间为6h；(5)将所得粗改性硅酸钙用去离子水和无水乙醇先后洗涤过滤3次后，常温或60℃干燥得到改性硅酸钙成品。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，两阶段所述吸附剂的投加量均为0.5-10g/L，吸附反应时间为0.5-2h，絮凝沉降池的沉降时间为0.5-2h。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括将第一、二段的沉降污泥排入到脱附池中，利用脱附剂、解析液对吸附剂进行脱附解析回收利用。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述脱附剂为含有5-10mol/L醋酸和1mol/L醋酸钠的溶液，脱附剂与污泥的用量比为1-2L:1g。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述解析液为含有1mol/L醋酸和5-10mol/L醋酸钠的溶液，解析液与污泥的用量比为1-2L:1g。