[发明专利]工业烤炉及其使用方法

说明书

技术领域

本发明涉及工业炉具领域，尤其涉及一种工业烤炉及其使用方法。

背景技术

在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管-液晶显示器)生产制造中，CF(Color Filter彩膜)基板生产制造中使用大量光阻，如红光阻。光阻剂主要由树脂、感光剂以及溶剂等不同的成分混合而成。玻璃基板经过涂布、曝光、显影等制程后，最后要需要进入高温的烤炉(Oven)烘烤一段时间，烘烤的目的是：将经过显影后的光阻，藉由热能蒸发将光阻内残留的溶剂降至最低状态，以形成彩膜。

请同时参阅图1与图2所示，为当前常用的烤炉的棚架结构及所在工业烤炉的机构示意图。其广泛应用于TFT-LCD生产制造中。棚架式结构烤炉的好处是定位针(Pin)12密集，大尺寸玻璃基板14放在定位针12上面，玻璃的形变量比较小，可以降低机台发生破片的风险，提升机台稼动率；劣势是由于炉体内采用烤架(rack)13支撑定位针12的方式，烤架的分布会非常密集，人员无法进入炉体11内进行作业，一旦炉体11内发生破片，为清理破片，工程人员必须拆掉部分烤架13后进入炉体11内进行清理破片的作业。因为炉体11内是高温的环境，完成的作业流程包括：降温、拆掉烤架、进入炉体内作业、重新安装烤架、升温，由于升温、降温、拆装烤架13花费时间较多，因为整个作业流程约花费4～5h，影响产线产能。且，烤架13经常拆卸也容易导致形变，进而影响其上承载的玻璃基板14的产品质量。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种工业烤炉及其使用方法，以解决现有技术中碎片作业耗时长、影响产品品质等问题。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：

一种工业烤炉，包括：

炉体的内部设置有多层烤架，所述烤架上设置有多个定位针，用于定位待加热物体；

加热设备，用于进行加热、以及对加热的温度和时间进行控制；

至少一个底盘及其对应的导轨，用于清理所述待加热物体所产生的碎片；以及

棚架，用于承载所述烤架和底盘的导轨。

优选地，所述底盘的数量大于等于2，且均匀分布于所述烤炉内部。

优选地，所述工业烤炉还包括：计量设备，安装于所述底盘上，用于计量当前的碎片总重量、和单次加热所产生的碎片重量。

优选地，所述工业烤炉还包括：质量反馈提示器，连接于所述计量设备，用于当所述单次加热所产生的碎片重量超过第一预设阈值时，以声、光、或电的方式进行反馈。

优选地，所述工业烤炉还包括：清理提示器，连接于所述计量设备，用于当所述当前的碎片总重量超过第二预设阈值时，以声、光、或电的方式进行提示。

优选地，所述待加热物体为玻璃基板。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：

一种工业烤炉的使用方法，包括如下步骤：

将待加热物体放置于烤架上，由定位针进行固定；

开始加热；

在加热结束后，判断底盘中单次加热所产生的碎片重量是否超过第一预设阈值，其中若超过第一预设阈值，则进行质量反馈；

判断当前的碎片总重量是否超过第二预设阈值，其中若超过所述第二预设阈值，则进行清理提示。

优选地，所述判断单次加热所产生的碎片重量是否超过第一预设阈值的步骤中、以及判断当前的碎片总重量是否超过第二预设阈值的步骤中：

所述判断是通过所述工业烤炉通过声、光、或电的方式进行提示来实现的。

优选地，所述清理提示后的步骤还包括：

将所述底盘通过导轨拉出，并进行清理。

优选地，所述待加热物体为玻璃基板。

相对于现有技术，本发明通过底盘和导轨的设计，可以及时将工业烤炉中的碎片进行清理，既节省了现有技术中的碎片清理时间，又避免了碎片对待加热物体进行二次污染而影响品质。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1为背景技术中常用的烤炉的棚架结构示意图；

图2为背景技术中烤炉炉体主要结构示意图；

图3是本发明实施例一中工业烤炉的剖面示意图；

图4是本发明实施例二中工业烤炉的使用方法示意图。