[发明专利]一种用于高真空环境的半导体冷却装置有效
申请号: | 201410632188.1 | 申请日: | 2014-11-11 |
公开(公告)号: | CN105655271B | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | 李学威;管莉娜;赵治国;何书龙;王文钊;吴青海 | 申请(专利权)人: | 沈阳新松机器人自动化股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 许宗富 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 冷却盘 支撑机构 半导体冷却装置 冷却 高真空环境 气动举升 支架机构 隔热 晶圆 举升 半导体 半导体加工技术 半导体加工 高温半导体 有效地实现 温度过高 自动升降 | ||
1.一种用于高真空环境的半导体冷却装置,包括晶圆支撑机构(1)、举升PIN支架机构(2)、冷却盘机构(3)、冷却盘隔热支撑机构(4)和气动举升机构(5),
所述晶圆支撑机构(1)、举升PIN支架机构(2)、冷却盘隔热支撑机构(4)设置在所述冷却盘机构(3)上,所述冷却盘机构(3)设置在所述气动举升机构(5)上;
所述晶圆支撑机构(1),用于支撑无需冷却的晶圆;
所述举升PIN支架机构(2),用于升降待冷却的晶圆;
所述冷却盘隔热支撑机构(4),用于隔离晶圆与所述冷却盘机构(3)以及支撑晶圆;
所述气动举升机构(5),用于晶圆升降提供动力源。
2.如权利要求1所述的半导体冷却装置,其特征在于,所述晶圆支撑机构(1)包括晶圆双爪支撑架(18)、晶圆单爪支撑架(19)和多个爪部石英支柱(20),所述晶圆双爪支撑架(18)、晶圆单爪支撑架(19)分别设置在所述冷却盘机构(3)的两侧,所述多个爪部石英支柱(20)分别设置在晶圆双爪支撑架(18)、晶圆单爪支撑架(19)上。
3.如权利要求1所述的半导体冷却装置,其特征在于,所述举升PIN支架机构(2)设置在所述冷却盘机构(3)上方、且与所述气动举升机构(5)连接,包括PIN支架(8)、PIN支架夹紧装置(9)和PIN石英支柱(10),所述PIN支架(8)和PIN支架夹紧装置(9)连接,所述PIN石英支柱(10)设置在所述PIN支架(8)和PIN支架夹紧装置(9)之间。
4.如权利要求3所述的半导体冷却装置,其特征在于,所述PIN支架(8)为Y型。
5.如权利要求1所述的半导体冷却装置,其特征在于,所述冷却盘机构(3)包括冷盘(6)和设置在所述冷盘(6)下部的水路密封板(7),所述冷盘(6)和水路密封板(7)通过O型圈密封,所述O型圈设置在所述冷盘(6)的密封槽内,冷却水在所述冷盘(6)和水路密封板(7)之间的水路流动。
6.如权利要求1所述的半导体冷却装置,其特征在于,所述冷却盘隔热支撑机构(4)为一具有平台面的冷却盘支撑石英球(21),所述冷却盘支撑石英球(21)的平台面与所述冷却盘机构(3)相连,且所述冷却盘支撑石英球(21)固定在所述冷却盘机构(3)上。
7.如权利要求1所述的半导体冷却装置,其特征在于,所述气动举升机构(5)包括气缸支撑盖(15)、气缸连接转接板(14)、气缸(13)、气缸支撑架(12)和顶起轴(11),
所述气缸支撑架(12)位于所述冷却盘机构(3)的下方且与所述冷却盘机构(3)固定连接;所述气缸支撑盖(15)固定连接在所述气缸支撑架(12)底部,所述气缸支撑盖(15)与所述气缸支撑架(12)形成一腔体;所述气缸(13)位于所述腔体内,且所述气缸(13)的固定端固定在气缸支撑盖(15)上;所述气缸连接转接板(14)的底部与所述气缸(13)的伸缩端固定连接,所述气缸连接转接板(14)的顶部与所述顶起轴(11)固定连接;所述顶起轴(11)贯穿所述冷却盘机构(3),且所述顶起轴(11)相对所述冷却盘机构(3)升降运动。
8.如权利要求7所述的半导体冷却装置,其特征在于,所述气动举升机构(5)还包括气缸支架外罩(16),所述气缸支架外罩(16)设置在所述气缸支撑架(12)外部。
9.如权利要求1所述的半导体冷却装置,其特征在于,还包括密封连接机构,所述密封连接机构包括密封波纹管(22)、中心支架(23)、中心支架(24),所述密封波纹管(22)用于所述气动举升机构(5)的顶起轴(11)与所述冷却盘机构(3)的密封和相对运动;所述密封波纹管(22)的底部与顶起轴(11)的底部通过中心支架(24)密封;所述密封波纹管(22)的顶部与冷却盘机构(3)的底部通过中心支架(23)密封。
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