[发明专利]单脉冲用染料调Q开关组件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于激光器调Q技术领域，尤其是涉及一种单脉冲用染料调Q开关组件及其制备方法。

背景技术

中小能量激光调Q产品主要包括晶体调Q、染料调Q技术等，各种调Q技术具有不同的特点，应用在不同的场合。尤其是染料调Q器件，目前已做成了薄膜片，更加适应轻量化、小形化的应用场合，同时在降低成本、方便集成等方面具有较大的优势。目前，市场上的染料调Q薄膜片产品基本上是采用获得国家发明奖的E法成型工艺生产的(获奖名称：RT-106染料片Q开关的E法成型工艺；获奖编号：06114；获奖时间：1983.1；获奖等级：国家发明四等奖)。用这种工艺方法生产染料调Q薄膜片已多年，在军品和民品的实际应用中，发挥了巨大作用。不过，E法成型工艺也存在着一些缺陷和问题。此工艺流程主要包括配料、搅拌、过滤、成型、定形、检测等工序。因薄膜片成型过程是表面先固化，但基片内部的有机溶剂仍在挥发，因而内部极易形成一些微观气泡，影响激光的透过率的均匀性；同时，这一工艺成型过程也容易使薄膜片的表面产生微观凹凸不平的现象，因而增强了激光的反射与散射。这种工艺方法的结果是激光透过率较低，透过率最高达94％～95％，损耗较大，对激光器调Q的效果存在一定的影响。随着社会的进步与科技的发展，染料调Q薄膜片的应用环境发生了巨大的变化，对调Q薄膜片的性能提出了更高的要求，如在高(50℃)、低温(-40℃)、以及针对高速移动、快速转动的目标的跟踪、定位、测距等工作，原先的调Q薄膜片已不适用。现实要求尽快改进调Q薄膜片的性能，最终实现系统可靠性与稳定性。如何改进调Q薄膜片的性能成为本领域技术人员研究的课题。

发明内容

本发明要解决的问题是提供一种提高调Q薄膜片的性能的开关组件及其制备方法。

为解决上述问题，本发明采用的技术方案：一种单脉冲用染料调Q开关组件，包括第一镜片、第二镜片和染料调Q薄膜片，所述第一镜片的中部设有锥台形凸起，所述第二镜片的中部设有与所述凸起形状相匹配的凹槽，所述染料调Q薄膜片设于所述凸起和所述凹槽之间的平面内；所述染料调Q薄膜片主要由以下配比的材料制成：二氯甲烷或二氯乙烷：乙醇：硅酸乙酯：二氧六环的体积比为200-300份：10-15份：2-10份：5-15份，PMMA:BDN的质量份数比为20000-40000份:5-500份，每5-15ML的二氧六环对应5-500MG的BDN。

所述染料调Q薄膜片主要由以下配比的材料制成：二氯甲烷或二氯乙烷：乙醇：硅酸乙酯：二氧六环的体积比为220-280份：11-14份：3-8份：7-12份，PMMA:BDN的质量份数比为25000-35000份:10-450份。

所述染料调Q薄膜片主要由以下配比的材料制成：二氯甲烷或二氯乙烷：乙醇：硅酸乙酯：二氧六环的体积比为220-280份：10-12份：5-6份：9-10份，PMMA:BDN的质量份数比为29000-33000份:100-300份。

所述染料调Q薄膜片主要由以下配比的材料制成：二氯甲烷或二氯乙烷：乙醇：硅酸乙酯：二氧六环的体积比为250-280份：10-12份：5-6份：9-10份，PMMA:BDN的质量份数比为30000-33000份:200-300份。

所述第一镜片远离凸起的一面与所述第二镜片远离凹槽的一面均设有高强度激光膜，所述激光膜的波长为1.064μm，所述激光膜单面对1.064μm减反的要求是透过率大于99.8％。

制备上述单脉冲用染料调Q开关组件的方法，包括如下步骤：

第一步：镜片加工；

第二步：染料调Q薄膜片所需材料的配制；

第三步：对第二步配好的料进行搅拌；

第四步：对第三步搅拌好的材料进行过滤；

第五步：静置消泡15-20小时；

第六步：成型：将过滤后的材料注入加工好的第二镜片内，将第一镜片盖在第二镜片的上面，在测角仪下轻轻挤压，成型后放入烘箱，恒温100-150摄氏度，10-14小时；

第七步：粘接工序：将上述第一步到第六步固化好的单脉冲用染料调Q开关组件半成品用环氧树脂粘接边缘。

所述第三步搅拌的具体操作如下：把第二步配好的材料置入专用搅拌器，水浴温度40℃，搅拌速度设为60转/min，搅拌7h。

所述第四步过滤的具体操作如下：将搅拌工序充分混合的拌料置入过滤器，滤层为真丝绸滤布3层，加压0.5kPa，滤液封盖。

还包括检验工序。