[发明专利]一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃及制备方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，本发明还涉及一种磁控溅射法制备高透光率的金色类双银LOW-E玻璃的方法。

【背景技术】

镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效。而金色玻璃作为镀膜玻璃的一个非常规品种，深受人们喜爱。但由于市场上现有的金色镀膜玻璃产品，色调暗淡且生产成本高，且大多数为阳光控制镀膜玻璃。

【发明内容】

本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，生产成本低的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，本发明还提供一种磁控溅射法制备高透光率的金色类双银LOW-E玻璃的方法。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SSTZrO_X层21，第二层为AZO层22，第三层为Si层23，第四层为AZO层24，第五层为Cu层25，第六层为CrN_xO_y层26，第七层为SnO₂层27，第八层为AZO层28，第九层为Si层29，第十层为AZO层210，第十一层为Ag层211，第十二层为CrN_xO_y层212，最外层为Si₃N₄层213。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SSTZrO_X层21的厚度为30～40nm。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第二层AZO层22的厚度为10～15nm，第四层AZO层24的厚度10～20nm，第八层AZO层28的厚度为8～12nm，第十层为AZO210的厚度为10～20nm。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层Si层23的厚度为3～5nm，第九层Si层295～8nm。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第五层Cu层25的厚度为10～15nm。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第六层CrN_xO_y层26和第十二层CrN_xO_y层212的厚度均为3nm。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第七层SnO₂层27的厚度为60nm。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第十一层Ag层211的厚度为10～15nm。

如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述最外层Si₃N₄层213的厚度为50nm。

一种制备上述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤：

(1) 磁控溅射SSTZrO_X层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射掺锆的不锈钢靶Fe：Zr＝80:20，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM；

(2) 磁控溅射氧AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O₂,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM，为Si、Cu层作铺垫；

(3) 磁控溅射Si层，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM；

(4) 磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O₂,氩氧比为400SCCM-420SCCM：20～40SCCM，为Cu层作铺垫；

(5) 磁控溅射Cu层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，体流量500～550SCCM；

(6) 磁控溅射CrN_xO_y层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体，渗少量氧气；

(7) 磁控溅射SnO₂层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM；