[发明专利]一种利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法无效

专利信息
申请号: 201410636632.7 申请日: 2014-11-13
公开(公告)号: CN104445143A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 王华;杨丽;李孔斋;魏永刚;祝星 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;C03C17/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 旋涂法将 石墨 组装 到两亲性钌 配合 制备 分子 方法
【权利要求书】:

1.一种利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法,其特征在于具体步骤如下:

(1)ITO基片上自组装两亲性钌配合物:在干净的容器中加入超纯水,用氨水调制PH至10,称取两亲性钌配合物[Ru(Py2G1MeBip)(XPOH)](PF6)2溶解于溶液中,用HCl调节PH至5后,制得两亲性钌配合物溶液;将ITO导电玻璃浸没于RCA溶液中,轻微震荡除去气泡后移至水浴锅内,水浴加热后取出ITO导电玻璃基片用超纯水洗净,用惰性气体吹干后浸没于两亲性钌配合物溶液中,轻微震荡除去气泡,在室温下浸渍3~6h后取出ITO基片用超纯水清洗干净后用惰性气体吹干;

(2)石墨烯分散液的配制:将十二烷基硫酸钠溶解于水中得到十二烷基硫酸钠水溶液,将石墨烯按照石墨烯的质量与十二烷基硫酸钠水溶液的体积比为2~4:10mg/ml分散在十二烷基硫酸钠水溶液中,超声波分散处理后离心分离除去底部残渣,得到浓度为0.1~0.3mg/ml的石墨烯分散液;

(3)石墨烯组装在两亲性钌配合物上制备单分子膜:将步骤(1)制备得到的有两亲性钌配合物的ITO基片固定在旋凃仪上,在基片表面滴加石墨烯分散液,启动旋涂仪,使石墨烯分散液均匀铺展成膜,室温放置使其自然干燥,用甲醇清洗基片表面除去表面活性剂后用惰性气体吹干,即石墨烯组装在两亲性钌配合物上制备得到单分子膜。

2.根据权利要求1所述的利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤(1)中的两亲性钌配合物[Ru(Py2G1MeBip)(XPOH)](PF6)2溶液浓度为50μM。

3.根据权利要求1所述的利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤(1)中的RCA溶液为NH3、H2O2和超纯水按质量比1:1:5的混合的溶液。

4.根据权利要求1所述的利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤(1)中的水浴加热温度为90℃,加热时间为0.5~2h。

5.根据权利要求1所述的利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤(2)十二烷基硫酸钠水溶液中十二烷基硫酸钠的质量与水的体积比为2:100g/ml。

6.根据权利要求1所述的利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤(2)中超声波分散时间为0.5~1.5h,离心分离时间为1~3h,转速为15krpm。

7.根据权利要求1所述的利用旋涂法将石墨烯组装到两亲性钌配合物上制备单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤(3)旋凃仪首先开启低速,低速启动阶段旋转速率为200rpm,时间为3s,然后开启高速,高速旋转速率为700~1000rpm,时间为70~120s。

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