[发明专利]一种高透光率的金色单银LOW-E玻璃及制备方法

权利要求书

1.一种高透光率的金色单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有七个膜层，其中第一膜层即最内层为SSTZrO_X层(21)，第二层为AZO层(22)，第三层为Si层(23)，第四层为AZO层(24)，第五层为Ag层(25)，第六层为CrN_xO_y(26)，最外层为SnO₂层(27)。

2.根据权利要求1所述的高透光率的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SSTZrO_X层(21)的厚度为30～40nm。

3.根据权利要求1所述的高透光率的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第二层AZO层(22)的厚度为10～15nm，第四层AZO层(24)的厚度10～20nm。

4.根据权利要求1所述的高透光率的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层Si层(23)的厚度为3～5nm。

5.根据权利要求1所述的高透光率的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第五层Ag层(25)的厚度为10～15nm。

6.根据权利要求1所述的高透光率的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第六层CrN_xO_y(26)和第十二层CrN_xO_y层(212)的厚度均为3nm。

7.根据权利要求1所述的高透光率的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述最外层SnO₂层(27)的厚度为60nm。

8.一种制备权利要求1～7任意一项所述的高透光率的金色单银LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)磁控溅射SSTZrO_X层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射掺锆的不锈钢靶Fe：Zr＝80:20，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM；

(2)磁控溅射氧AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O₂,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM，为Si、Ag层作铺垫；

(3)磁控溅射Si层，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM；

(4)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O₂,氩氧比为400SCCM-420SCCM：20～40SCCM，为Cu层作铺垫；

(5)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作工艺气体，气体流量500～550SCCM；

(6)磁控溅射CrN_xO_y层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体，渗少量氧气；

(7)磁控溅射SnO₂层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM。