[发明专利]旋转体的制造方法、感光体的制造方法有效
申请号: | 201410638177.4 | 申请日: | 2014-11-06 |
公开(公告)号: | CN105093865B | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 小川宽晃;涉谷博 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G5/00 | 分类号: | G03G5/00;B05C3/09 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 旋转体 制造 方法 感光 | ||
本发明提供旋转体的制造方法、感光体的制造方法。可抑制因浸渍涂布于基体的涂液的自重而在基体的上部产生的液体垂挂。旋转体的制造方法具有:第1工序,使圆筒状或圆柱状的基体下降而浸渍于涂液,在该基体的上部露出该涂液的状态停止该下降;第2工序,在该第1工序的停止位置以预先设定的时间保持该基体;第3工序,在该第2工序后使该基体进一步下降;和第4工序,在该第3工序后从该涂液中提升该基体。
技术领域
本发明涉及旋转体的制造方法、感光体的制造方法。
背景技术
专利文献1中公开了一种将涂液(感光层)涂布于感光体鼓的基体上的涂布方法。该涂布方法中,将浸渍于涂布槽中的基体暂且提升以使得该基体的涂布区域上部露出在液面上的空气中预定时间,之后再浸渍,其后将整个基体从涂布槽中提升。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-82454号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的目的在于抑制因浸渍涂布于基体的涂液的自重而在基体的上部产生的液体垂挂。
解决课题的手段
本发明第一方面的发明具有:第1工序,使圆筒状或圆柱状的基体下降而浸渍于涂液中,在该基体的上部露出该涂液的状态停止该下降;第2工序,在该第1工序的停止位置以预先设定的时间保持该基体;第3工序,在该第2工序后,使该基体进一步下降;和第4工序,在该第3工序后,从该涂液中提升该基体。
本发明第二方面的发明中,至上述第3工序中所下降的位置为止使上述基体途中不停止地下降后提升该基体,对在上述基体的上部因上述涂液的自重而产生液体垂挂的范围进行预先测定;上述第1工序中,按照使上述涂液的液面位于该范围内的方式停止上述下降。
本发明第三方面的发明中,利用本发明第一方面或第二方面的制造方法在上述基体的外周形成感光层。
发明效果
根据本发明的第一方面的制造方法,与在到达第3工序中所下降的位置为止途中不停止地使基体下降后提升该基体的比较例相比,能够抑制因浸渍涂布于基体的涂液的自重而在基体的上部产生的液体垂挂。
根据本发明的第二方面的制造方法,与按照使涂液的液面位于本制造方法的范围的范围外的方式停止基体的下降的比较例相比,能够抑制因浸渍涂布于基体的涂液的自重而在基体的上部产生的液体垂挂。
根据本发明的第三方面的制造方法,与至第3工序中所下降的位置为止使基体途中不停止地下降后提升该基体的比较例相比,能够抑制在基体轴向端部的感光层的薄膜化。
附图说明
图1为示出本实施方式的浸渍涂布装置的构成的示意图。
图2为示出本实施方式的感光体的构成的示意图。
图3为示出本实施方式的制造方法的示意图。
图4为示出本实施方式的制造方法的示意图。
图5为示出在本实施方式的制造方法中粘度上升的涂液的动作的示意图。
图6为示出本实施方式和比较例的制造方法中的液体垂挂的示意图。
符号说明
30感光体(旋转体的一例)
32基体
50感光层
L涂液
具体实施方式
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