[发明专利]一种可溶性含氮超支化聚合物及其制备方法和应用在审
申请号: | 201410638189.7 | 申请日: | 2014-11-12 |
公开(公告)号: | CN104829848A | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 唐本忠;陈燕君;林荣业 | 申请(专利权)人: | 香港科技大学深圳研究院;香港科技大学 |
主分类号: | C08G83/00 | 分类号: | C08G83/00;G02B1/04;G01N21/64 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 郭伟刚;吴静 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区高新科*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 可溶性 超支 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种可溶性含氮超支化聚合物,其结构式(I)如下:
其中,n>1;R、R’和R”为任一种有机化学基团,在上述结构式(I)中出现的每一个R基团为相同基团或不同基团,每一个R’基团为相同基团或不同基团,每一个R”基团为相同基团或不同基团。
2.根据权利要求1所述的可溶性含氮超支化聚合物,其特征在于,所述R、R’和R”基团分别为选自于包含有下述任一结构的基团:
其中,X为任何一种杂原子;R1为烷基、不饱和烷基、乙烯基、乙酰基、芳基、杂烷基、杂芳基、环烷基或杂环烷基。
3.根据权利要求1所述的可溶性含氮超支化聚合物,其特征在于,n≥10。
4.根据权利要求1所述的可溶性含氮超支化聚合物,其特征在于,R、R’和R”基团为相同的有机基团。
5.根据权利要求1所述的可溶性含氮超支化聚合物,其特征在于,所述可溶性含氮超支化聚合物为选自于包含有结构式(II)的第一聚合物(hb-P1a)、包含有结构式(III)的第二聚合物(hb-P1b)、包含有结构式(IV)的第一聚合物(hb-P1c)或包含有结构式(V)的第一聚合物(hb-P1d);
其中,结构式(II、III、IV和V)如下,且n>1:
6.权利要求1-5任一所述可溶性含氮超支化聚合物可在光学或光电子学方面的应用。
7.根据权利要求6所述的应用,其特征在于,所述可溶性含氮超支化聚合物可用于制备透镜、棱镜、导波管光学或光学显示系统的镀膜材料。
8.权利要求1-5任一所述可溶性含氮超支化聚合物可用于制备灵敏度高的金属离子的荧光检测剂。
9.一种可溶性含氮超支化聚合物的制备方法,包括如下步骤:A、将含有至少一氰基的前体溶于有机溶剂中并通过有机酸催化发生聚合反应生成。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述前体为第一单体(1a)、第二单体(1b)、第三单体(1c)或第四单体(1d),其结构式如下:
11.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述有机酸为CF3SO3H;所述有机溶剂为二氯甲烷(DCM)、氯仿(CHCl3)或1,2-二氯代苯(o-DCB)。
12.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述有机酸与前体的摩尔比值范围为4~6;所述前体溶于有机溶剂中的浓度为0.125mol/L~0.25mol/L。
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