[发明专利]一种发光器件及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201410642075.X 申请日: 2014-11-13
公开(公告)号: CN104409646A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 陈鹏 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 发光 器件 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种发光器件及其制备方法、显示装置。

背景技术

图1为现有技术中发光器件的光路示意图。如图1所示,所述发光器件包括衬底基板101,所述衬底基板101上依次设置有平坦化层102、阳极层103、功能层104和阴极层105。所述发光器件采用底发光结构,光线106从所述衬底基板101射出,在所述衬底基板101与空气的接触面可能会形成全反射,导致一部分光线无法从所述衬底基板101射出,从而降低了出光效率,增加了功耗损失。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供一种发光器件及其制备方法、显示装置,用于解决现有技术中发光器件降低出光效率,增加功耗损失的问题。

为此,本发明提供一种发光器件,包括衬底基板,所述衬底基板上设置有阳极层、功能层和阴极层,所述功能层设置在所述阳极层和所述阴极层之间,所述衬底基板上还设置有增透层,所述增透层包括多个光子晶体微结构。

可选的,多个所述光子晶体微结构间隔设置。

可选的,多个所述光子晶体微结构等间隔设置。

可选的,所述增透层设置在所述阳极层的下方。

可选的,所述光子晶体微结构的高度为0.4μm。

可选的,所述光子晶体微结构的间隔为0.6μm。

可选的,所述光子晶体微结构的截面为正多边形。

可选的,所述增透层的构成材料包括氮化硅或者氧化硅。

可选的,还包括平坦化层,所述平坦化层设置在所述增透层与所述阳极层之间,所述平坦化层的一部分位于所述光子晶体微结构之间的间隔内。

本发明还提供一种显示装置,包括上述任一发光器件。

本发明还提供一种发光器件的制备方法,包括:在衬底基板的上方形成增透层,所述增透层包括多个光子晶体微结构;在衬底基板的上方形成阳极层、功能层和阴极层,所述功能层设置在所述阳极层和所述阴极层之间。

本发明具有下述有益效果:

本发明提供的发光器件及其制备方法、显示装置中,所述发光器件包括衬底基板,所述衬底基板上设置有阳极层、功能层和阴极层,所述功能层设置在所述阳极层和所述阴极层之间,所述衬底基板上还设置有增透层,所述增透层包括多个光子晶体微结构,使得光线透过所述增透层时产生折射,以形成不同方向的光线。不同方向的光线透过所述衬底基板与空气的接触面时能够减少全反射的发生,从而提高了出光效率,减少了功耗损失。

附图说明

图1为现有技术中发光器件的光路示意图;

图2为本发明实施例一提供的一种发光器件的结构示意图;

图3为图2所示增透层的结构示意图;

图4为图2所示发光器件的光路示意图;

图5为本发明实施例三提供的一种发光器件的制备方法的流程图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的发光器件及其制备方法、显示装置进行详细描述。

实施例一

图2为本发明实施例一提供的一种发光器件的结构示意图。如图2所示,所述发光器件包括衬底基板101,所述衬底基板101上依次设置有阳极层103、功能层104和阴极层105。所述衬底基板101上还设置有增透层107,所述增透层107包括多个光子晶体微结构108,使得光线透过所述增透层时产生折射,以形成不同方向的光线。不同方向的光线透过所述衬底基板与空气的接触面时能够减少全反射的发生,从而提高了出光效率,减少了功耗损失。

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