[发明专利]一种基于四向虚光栅的二维干涉图相位提取方法

权利要求书

1.一种基于四向虚光栅的二维干涉图相位提取方法，其特征在于，具体步骤为： 

步骤101、设定两个参考频率，基于所述参考频率生成四种含一定相移量的多幅参考干涉图，将所述参考干涉图称为虚光栅； 

步骤102、将待处理干涉图与每一虚光栅相乘，得到多幅莫尔条纹图； 

步骤103、针对每一莫尔条纹图提取其低频部分，获得低频莫尔条纹强度图，对低频莫尔条纹强度图进行移相计算，获取待处理干涉图的相位。 

2.根据权利要求1所述二维干涉图相位提取方法，其特征在于，将所述两个参考频率设定为与待处理干涉图x,y方向载频f_x、f_y相近的频率。 

3.根据权利要求1所述二维干涉图相位提取方法，其特征在于，设定的两个参考频率分别为f_rx和f_ry，且f_rx与待处理干涉图x方向载频f_x相近，f_ry与待处理干涉图y方向载频f_y相近。 

4.根据权利要求3所述二维干涉图相位提取方法，其特征在于，步骤101中生成的参考干涉图为16幅，分别为 

其中，

5.根据权利要求1所述二维干涉图相位提取方法，其特征在于，所述获得低频莫尔条纹强度图的具体过程为： 

首先，对每一莫尔条纹图进行傅里叶变换，得到莫尔条纹图的频谱； 

其次，采用低通滤波器滤出每一频谱中的低频部分，再对低频部分进行逆傅里叶变换，得到多种低频莫尔条纹强度图。 

6.根据权利要求1所述二维干涉图相位提取方法，其特征在于，对每一种低频莫尔条纹强度图的移相计算为采用四步移相算法实现。