[发明专利]玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃基板的制造方法。

背景技术

作为用于磁记录装置等的磁记录介质用玻璃基板，以往一直使用铝合金基板，但随着高记录密度化的要求，相比铝合金基板更硬、平坦性及平滑性优良的玻璃基板逐渐成为主流。

磁记录介质用的玻璃基板是通过将玻璃基板坯切割成规定形状后，对端面及主平面进行研磨等来制造。该磁记录介质用玻璃基板的制造方法中的研磨工序中，将玻璃基板保持在研磨用载具中，一边向玻璃基板和研磨垫之间供给含有磨粒的研磨液(浆料)一边使用研磨垫进行研磨。

上述研磨工序之中，在玻璃基板的研磨中研磨垫的研磨面上产生伤痕(研磨用载具划擦研磨垫的研磨面)。在研磨垫的研磨面上具有伤痕的状态下研磨玻璃基板时，有可能产生如下问题：产品品质产生问题；研磨中玻璃基板破损而在研磨面上带有伤痕时需要更换研磨垫；等等。另外，研磨垫的使用时间缩短，还存在使生产率变差、导致成本上升这样的问题。

研磨速率下降时需要切削研磨垫的表面来调整研磨面(修整处理(ドレス処理))。另外，使用研磨垫制造的玻璃基板不能满足所需品质时，视为达到耐用极限而要更换成新的研磨垫。

由于修整处理或更换研磨垫而必须暂停研磨工序，存在玻璃基板的生产率下降、成本增加这样的问题。另外，修整处理是对研磨垫的研磨面进行切削调整的操作，因此随着修整处理的进行，研磨垫的寿命缩短。

另外，专利文献1中记载了在具有使用行星齿轮机构的研磨工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，以抑制贴合于上下平台的研磨垫上产生单面磨削(偏磨)，降低因研磨垫导致的生产率下滑为目的，研磨工序设置有：第一研磨期，使上述上下平台沿规定方向旋转来研磨上述玻璃基板的主表面；第二研磨期，使上述上下平台沿上述规定方向的反方向旋转来研磨上述玻璃基板的主表面。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国特开2011-67901号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，从在玻璃基板的研磨中充分防止在研磨垫的研磨面上产生伤痕、延长研磨垫的寿命的观点出发，专利文献1所公开的技术是不充分的。

因此，本发明的目的在于提供玻璃基板的制造方法，该玻璃基板的制造方法能够在玻璃基板的研磨中防止研磨垫的研磨面产生伤痕，延长研磨垫的寿命。

用于解决问题的手段

本发明人发现，使用将1μl研磨液滴加至研磨垫的研磨面起50秒后研磨液的接触角为50°以下的研磨垫和研磨液，改善了研磨液对研磨垫的渗透性，对玻璃基板的主平面进行研磨，由此能够在玻璃基板的研磨中防止研磨垫的研磨面上产生伤痕、并延长研磨垫的寿命，从而完成了本发明。

即，本发明如下所述。

(1)一种玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板的制造方法包括：

研磨工序，所述研磨工序使用研磨垫和研磨液对保持在研磨用载具的保持孔中的玻璃基板的主平面进行研磨，所述研磨垫具有肖氏D硬度为40以下的发泡树脂的研磨层，所述研磨液含有初级粒径为3～50nm的二氧化硅作为磨粒；和

清洗工序，所述清洗工序对玻璃基板的表面进行清洗，

所述玻璃基板的制造方法的特征在于，

所述研磨工序中，使用将1μl研磨液滴加至研磨垫的研磨面起50秒后研磨液的接触角为50°以下的研磨垫和研磨液对玻璃基板的主平面进行研磨。

(2)如(1)所述的玻璃基板的制造方法，其中，在所述研磨用载具中，将1μl研磨液滴加至研磨用载具的表面起0.1秒后研磨液的接触角为75°以下。

(3)如(1)或(2)所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述研磨液在25℃的粘度为1.7mPa·s以下。

(4)如(1)～(3)中任一项所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述研磨液的pH为1～6，作为磨粒的二氧化硅的含量为5～25质量％。

(5)如(1)～(4)中任一项所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃基板是在中央部具有圆孔的磁记录介质用玻璃基板。

发明效果

根据本发明的玻璃基板的制造方法，改善了研磨液对研磨垫的渗透性，能够在最终研磨工序中抑制研磨垫上产生伤痕。由此，能够延长研磨垫的寿命，能够实现磁记录介质用玻璃基板的制造工序中的生产率提高以及成本降低。

附图说明

图1是对可装载研磨用载具的玻璃基板的双面研磨装置进行说明的图。

图2是玻璃基板的立体图。

具体实施方式

[玻璃基板的制造方法的概要]