[发明专利]硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板

权利要求书

1.硬质涂膜，其在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该硬质涂膜的特征在于，

该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，

所述硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，

所述（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于所述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，

使水与将所述（B）疏水化硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100°以上的值，

且，

所述（B）疏水化硅溶胶偏析于将所述硬质涂层形成材料固化后的所述硬质涂层的与所述基材膜相反一侧的表面，

所述硬质涂层的表面的根据JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为1.5~5nm的范围内的值。

2.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述（B）疏水化硅溶胶的平均粒径为10~100nm的范围内的值。

3.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，使水与将所述（B）疏水化硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100~130°的范围内的值。

4.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述（A）能量射线固化性树脂含有（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物以及（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，所述（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物与所述（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的含有重量比为100:0~20:80的范围内的值。

5.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述硬质涂层形成材料进一步包含（C）流平剂。

6.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述硬质涂层的厚度为1~10μm的范围内的值。

7.透明导电性膜，其特征在于，其在权利要求1所述的硬质涂膜的至少单面具备透明导电层。

8.电容触控面板，其包含：具备防玻璃飞散膜的盖板玻璃、第一透明导电性膜、第二透明导电性膜、以及液晶显示体，该电容触控面板的特征在于，

所述第一透明导电性膜在第一硬质涂膜的至少单面具备第一透明导电层，

所述第二透明导电性膜在第二硬质涂膜的至少单面具备第二透明导电层，

所述第一硬质涂膜和所述第二硬质涂膜是在基材膜的至少单面具备硬质涂层的硬质涂膜，

该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，

所述硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，

所述（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于所述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，

使水与将所述（B）疏水化硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100°以上的值，

且，

所述（B）疏水化硅溶胶偏析于将所述硬质涂层形成材料固化后的所述硬质涂层的与所述基材膜相反一侧的表面，

所述硬质涂层的表面的根据JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为1.5~5nm的范围内的值。

9.硬质涂膜的制造方法，所述硬质涂膜在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该制造方法的特征在于，

所述硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，

所述硬质涂层的表面的根据JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为1.5~5nm的范围内的值

该制造方法包括下述工序（1）~（3）：

（1）准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A）能量射线固化性树脂、以及相对于所述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值的（B）疏水化硅溶胶，使水与将所述（B）疏水化硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100°以上的值；

（2）将所述硬质涂层形成材料涂布于所述基材膜的至少单面的工序；

（3）将所述硬质涂层形成材料固化，从而形成具备所述（B）疏水化硅溶胶偏析于所述硬质涂层的与所述基材膜相反一侧的表面的硬质涂层的硬质涂膜的工序。