[发明专利]循环供液桶

说明书

技术领域

本发明涉及湿法刻蚀、清洗工艺技术领域，尤其涉及一种循环供液桶。

背景技术

在半导体、集成电路及LED芯片制造领域湿法刻蚀、清洗工艺中化学液出 于成本考虑通常需要循环使用，即化学液会回收回来通过过滤等处理后反复使 用，到一定时间后才会更换。而现有用于清洗设备的化学液桶基本只具有供液 作用，没有考虑设计用于化学液回收，具有循环使用的功能。这就需要一种可 以满足循环使用要求，且可以耐受包括强酸、强碱、有机溶剂等多种化学品的 供液桶。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种可与湿法刻蚀、清洗设备上配套使用的 循环供液桶，实现强酸、强碱、有机溶剂等多种化学液的循环使用。

为了达到上述目的，本发明实施例采用的技术方案如下：

一种循环供液桶，用于向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液，并将湿法刻蚀、 清洗设备的工艺处理腔中的化学液回收，所述循环供液桶包括：

桶体，用于盛装化学液，所述桶体的底部设有出液口，所述出液口通过管 道与供液泵相连通，所述桶体内的化学液进入所述供液泵，所述化学液通过所 述供液泵喷洒至湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的基片表面；

桶盖，所述桶盖设置在所述桶体上端，所述桶盖上设有回收液进口，所述 回收液进口通过管路与所述湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔内的化学液收集 口相连；

桶体支架，用于支撑所述桶体。

进一步地，所述桶体底部为凹形，所述出液口设置在所述凹形的最低点。

进一步地，所述桶体侧壁上部设有排液口，当所述桶体内的化学液液位过 高时，用于将过量化学液排出所述桶体外。

进一步地，所述循环供液桶包括液位传感器，用于监测所述桶体内化学液 的液位，并将液位信号传输至所述湿法刻蚀、清洗设备的控制部分；所述桶盖 上设有自动补液进口，所述自动补液进口与补液泵连接，所述湿法刻蚀、清洗 设备的控制部分根据所述液位信号控制所述补液泵通过所述自动补液进口向所 述桶体供液或停止向所述桶体供液。

进一步地，所述桶盖上设有补液口，用于向所述桶体内手动补充化学液。

进一步地，所述循环供液桶包括温度传感器，用于监控所述桶体内化学液 的温度。

进一步地，所述桶盖上设有清洗液进口，用于在需要清洗所述桶体时通入 清洗液。

进一步地，所述桶体的材质为聚四氟乙烯。

进一步地，所述桶体支架的材质为pp板材。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明实施例所提供的循环供液桶，与湿法刻蚀、清洗设备配合使用，在 向湿法刻蚀、清洗设备提供化学液的同时，将湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理 腔中的化学液通过桶盖上的回收液进口回收至桶体内，再通过桶体底部的出液 口进入供液泵，实现化学液的循环利用。

附图说明

图1为本发明实施例提供的循环供液泵的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的循环供液泵的剖面图。

具体实施方式

为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方 式对上述技术方案进行详细的说明。

如图1和图2所示，本发明实施例公开了一种循环供液桶，用于向湿法刻 蚀、清洗设备提供化学液，并将湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中的化学液 回收再利用，所述循环供液桶包括：桶体1、桶盖2和桶体支架3。桶体1用于 盛装化学液，所述桶体1的底部设有出液口4，所述出液口4通过管道与供液泵 相连通，所述桶体1内的化学液进入所述供液泵，化学液通过所述供液泵喷洒 向湿法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔中放置的圆盘状基片表面；所述桶盖2设 置在所述桶体1上端，所述桶盖2上设有回收液进口5，所述回收液进口5与湿 法刻蚀、清洗设备的工艺处理腔的化学液收集口相连；桶体支架3用于支撑所 述桶体1。

本实施例中，所述桶体1底部为凹形，便于桶体底部的化学液排出；所述 出液口4设置在所述凹形的最低点。

本实施例中，所述桶体1侧壁上部设有排液口6，当所述桶体1内的化学液 液位过高时，用于将过量化学液排出所述桶体1外。