[发明专利]玻璃微粒沉积体的制造方法以及玻璃母材的制造方法在审
申请号: | 201410645796.6 | 申请日: | 2014-11-12 |
公开(公告)号: | CN104628248A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 石原朋浩;山崎卓 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | C03B37/018 | 分类号: | C03B37/018 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁业平;张苏娜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 微粒 沉积 制造 方法 以及 | ||
1.一种玻璃微粒沉积体的制造方法,具有如下的沉积工序:在反应容器内设置起始棒和玻璃微粒生成用燃烧器,向所述燃烧器中导入玻璃原料,在所述燃烧器所形成的火焰内使玻璃原料发生火焰热分解反应以生成玻璃微粒,并且使生成的玻璃微粒沉积在所述起始棒上,从而制作玻璃微粒沉积体;
在所述沉积工序中,每一个燃烧器至少设置两个从所述燃烧器喷出玻璃原料的出射口,将所述出射口中至少一个出射口的面积设为所述燃烧器的火焰形成部的面积的2.25×10-4以下,将所述玻璃原料以液体状态供给至各所述出射口,气体喷出口的内周配置在自各所述出射口的外周向外侧1.0mm以内的位置处,并从所述气体喷出口喷出气体。
2.如权利要求1所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,所述每一个燃烧器设置五个以上的所述出射口。
3.如权利要求1或2所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,将所述一个出射口的面积设为所述火焰形成部的面积的1.00×10-4以下。
4.如权利要求1或2所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,将所述一个出射口的面积设为所述火焰形成部的面积的2.50×10-5以下。
5.如权利要求1或2所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,将所述一个出射口的面积设为所述火焰形成部的面积的4.00×10-6以下。
6.如权利要求1~5中任意一项所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,从所述气体喷出口喷出包含氧气的气体,从而将从各所述出射口喷出的所述玻璃原料雾化。
7.如权利要求6所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,从各所述气体喷出口喷出流速为856m/s以上的气体,从而将从各所述出射口喷出的所述玻璃原料雾化。
8.如权利要求6所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,从各所述气体喷出口喷出流速为1283m/s以上的气体,从而将从各所述出射口喷出的所述玻璃原料雾化。
9.如权利要求7或8所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,将从各所述气体喷出口喷出的所述气体中所含的氧分子数设为从各所述出射口喷出的所述玻璃原料中所含的Si原子数以上。
10.如权利要求7或8所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,将从各所述气体喷出口喷出的所述气体中所含的氧分子数设为从各所述出射口喷出的所述玻璃原料中所含的Si原子数的1.5倍以上。
11.如权利要求1所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,将供给至所述燃烧器的所述玻璃原料设为硅氧烷。
12.如权利要求1所述的玻璃微粒沉积体的制造方法,其中,在所述沉积工序中,将供给至所述燃烧器的所述玻璃原料设为八甲基环四硅氧烷(OMCTS)。
13.一种玻璃母材的制造方法,具有如下的透明化工序:通过权利要求1至12中任意一项所述的玻璃微粒沉积体的制造方法制造玻璃微粒沉积体,对该制造的玻璃微粒沉积体进行加热,从而制造透明的玻璃母材。
14.如权利要求13所述的玻璃母材的制造方法,其中,在所述沉积工序中,通过OVD法、VAD法、MMD法中的任意一者进行玻璃微粒向所述起始棒的沉积。
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