[发明专利]一种小果型西瓜的无土栽培方法在审
申请号: | 201410645889.9 | 申请日: | 2014-11-05 |
公开(公告)号: | CN104429852A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 董承启 | 申请(专利权)人: | 董承启 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 262500*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 小果型 西瓜 无土栽培 方法 | ||
技术领域
本发明涉及西瓜的栽培方法,特别是涉及一种小果型西瓜的无土栽培方法。
背景技术
小果型西瓜是近年来特别走俏的一类西瓜,其小巧秀美、皮薄瓤脆、汁多爽口、清甜适度、品质特佳,是西瓜中的珍品。目前,小果型西瓜的生产主要采用传统的裸地栽培方法,这种栽培方法由于受自然条件的影响很大,故通常情况下,西瓜的产量低、品质差,且会存在连作障碍问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种小果型西瓜的无土栽培方法,以解决现有小果型西瓜栽培方法产量低、西瓜品质差,且连作障碍的问题。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种小果型西瓜的无土栽培方法,包括以下步骤:
(1)品种选择:选择外观漂亮、有特色、口感好、含糖量高的小果型西瓜品种;
(2)播种育苗:春季1月~3月播种,秋季9月播种,播前用热水烫种、浸种和催芽,把育苗基质装入育苗盘内,淋水后即可播种;
(3)栽培管理:当幼苗具3~4片真叶时定植,定植前将栽培基质浇透水,每个栽培槽植2行,槽内行距70cm,株距50cm,每株定植的位置要靠近滴管带出永口的位置,定植过程要避免伤根,定植后7天应进行追肥;
(4)整枝、引蔓:株高30厘米时,除主蔓外,留一侧蔓,其余去掉,让主蔓结一个瓜,另外一条侧蔓作营养枝,在结瓜节位以上,留4~5片叶、摘心,当瓜苗长到10节左右时,用绳固定主蔓,引蔓向上生长;
(5)授粉:在16节~25节雌花上进行。
优选地,步骤(3)所述的栽培槽用砖砌成,槽内宽90cm,高18cm,槽间过道90cm,槽底铺一层0.1mm厚的聚乙稀薄膜与地面土壤隔离。
本发明的有益效果为:通过采用无土栽培技术,增加人工干预,最大程度地减小了自然条件的影响,显著提高了小果型西瓜的产量和品质,且避开了连作障碍的问题。
具体实施方式
本发明的小果型西瓜的无土栽培方法,包括以下步骤:
(1)品种选择:选择外观漂亮、有特色、口感好、含糖量高的小果型西瓜品种;
(2)播种育苗:春季1月~3月播种,秋季9月播种,播前用热水烫种、浸种和催芽,把育苗基质装入育苗盘内,淋水后即可播种;
(3)栽培管理:当幼苗具3~4片真叶时定植,定植前将栽培基质浇透水,每个栽培槽植2行,槽肉行距70cm,株距50cm,每株定植的位置要靠近滴管带出水口的位置,定植过程要避免伤根,定植后7天应进行追肥;
(4)整枝、引蔓:株高30厘米时,除主蔓外,留一侧蔓,其余去掉,让主蔓结一个瓜,另外一条侧蔓作营养枝,在结瓜节位以上,留4~5片叶、摘心,当瓜苗长到10节左右时,用绳固定主蔓,引蔓向上生长;
(5)授粉:在16节~25节雌花上进行。
优选地,步骤(3)所述栽培槽用砖砌成,长度按温室具体情况而定,一般不超20m,槽内宽90cm,高18cm,槽间过道90cm,槽底铺一层0.1mm厚的聚乙稀薄膜与地面土壤隔离。
此外,还应根据植株长势和气候条件进行水分管理。植株较小、气温又较低时,可每2~3天滴灌1次清水;植株生长旺盛、气温高,特别是果实膨大期,需水量较大,必须每天浇水。后期必须控水,采收前忌水,否则影响果实的品质。
本发明通过采用无土栽培技术,增加人工干预,最大程度地减小了自然条件的影响,显著提高了小果型西瓜的产量和品质,且避开了连作障碍的问题。
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