[发明专利]显示面板的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410648799.5 申请日: 2014-11-14
公开(公告)号: CN105590895B 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 高克毅;丁景隆;张荣芳;王建忠 申请(专利权)人: 群创光电股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1333
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 制备 方法
【说明书】:

一种显示面板的制备方法,包括:(A)提供一基板;一氧化半导体层,设置于该基板上;以及一栅极电极,设置于该基板上并对应该氧化半导体层;(B)形成一金属层于该氧化半导体层上;(C)形成一光阻于该金属层上并蚀刻该金属层,形成一源极电极与一漏极电极;(D)加热该光阻,使该光阻覆盖该源极电极与该漏极电极的一侧壁;(E)于该基板上施加一碱性液;以及(F)移除该光阻,以显露该源极电极与该漏极电极。

技术领域

发明是关于一种显示面板的制备方法,尤其指一种能够制备出具有优异可靠性的显示面板的制备方法。

背景技术

随着显示器技术不断进步,用户对于电子产品的要求越来越高,所有的装置均朝体积小、厚度薄、重量轻等趋势发展,故目前市面上主流的显示器装置已由以往的阴极射线管发展成液晶显示设备(LCD)或有机发光二极管装置(OLED)。

薄膜晶体管已广泛的应用在各种高阶显示器中,由于市场的快速竞争,显示器的尺寸与显示质量需求(例如:显示色彩饱和度)快速增加,同时也增加对产品中薄膜晶体管的电性表现与稳定度的要求。于薄膜晶体管的制备过程中,金属电极的制作方式是通常先于基板上沉积所需金属材料层,接着利用微影蚀刻方式制作出所需光阻图案,而后再蚀刻光阻下方的金属层,即可制作出具有所需图案的金属层。然而,在蚀刻过程中,蚀刻反应的产物可能会破坏半导体层或累积于半导体层上,进而造成组件起始电压负偏、或影响组件操作的可靠性等问题。

有鉴于此,目前亟需发展一种改善上述问题的显示面板的制备方法,改善其所制备的显示面板中薄膜晶体管特性,进而提升显示设备的显示质量。

发明内容

本发明的目的是提供一种显示面板的制备方法,以制备具有提升可靠性的显示面板。

为实现上述目的,本发明提供的显示面板的制备方法,包括下列步骤:(A)提供一基板;一氧化半导体层,设置于该基板上;以及一栅极电极,设置于该基板上并对应该氧化半导体层;(B)形成一金属层于该氧化半导体层上;(C)形成一光阻于该金属层上并蚀刻该金属层,以形成一源极电极与一漏极电极,且该源极电极与该漏极电极相互隔离;(D)加热该光阻,使该光阻覆盖该源极电极与该漏极电极的一侧壁;(E)于该基板上施加一碱性液;以及(F)移除该光阻,以显露该源极电极与该漏极电极。

于上述步骤(A)中,该栅极电极可设置于该氧化半导体层上;或者,该栅极电极可设置于该基板与该氧化半导体层之间。

于上述步骤(B)中,该金属层的结构可为包含铝的一单层结构或一多层结构,该多层结构可包含至少两种金属选自由:钼(Mo)、铝(Al)、及钛(Ti)或其所组成的群组。

于上述步骤(C)中,使用一蚀刻液蚀刻该金属层,该蚀刻液可为一种以上选自由:硝酸、磷酸、及醋酸所组群组。

于上述步骤(D)中,以该侧壁的总面积为100%为基准,该光阻覆盖该源极电极与该漏极电极的该侧壁的面积为50%以上,该光阻较佳可完全覆盖该源极电极与该漏极电极的该侧壁。此外,加热该光阻可于100度至150度的温度范围内进行2分钟至60分钟,较佳为于110度至140度的温度范围内进行3分钟至30分钟。

于上述步骤(E)中,该碱性液可为一包含氢氧(OH)基的显影液,且该碱性液的酸碱值可大于pH7且小于等于pH14,较佳为介于pH12至pH14之间。

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